Substrate Treatment Heater Apparatus

The present invention relates to a heater device for processing a substrate in which a connection state of a heater member is improved. The heater device for processing a substrate comprises: a heater member generating heat to process a substrate; and a heater block into which the heater member is detachably inserted, wherein the plurality of the heater members are provided for the entire area of the heater block, and ends of some of the heater members among the plurality of heater members are connected with a heater cable to form a single heater block. 본 발명은 히터 부재의 결선 상태가 개선된 기판 처리용 히터 장치에 관한 것이다. 본 발명은 기판을 처리하기 위해 발열하는 히터 부재; 상기 히터 부재가 착탈 가능하게 삽입되는 히터 블록을 포함하고, 상기 히터 부재는 히터 블록의 전체 면적에 대하여 복수로 마련되며, 상기 복수의 히터 부재중 일부의 히터 부재의 단부는 히터 케이블로 연결하여 하나의 히터 부재가 되는 기판 처리용 히터 장치가 제공될 수 있다.