PELLICLE

[과제] 본 발명은 펠리클 프레임의 폭을 극한까지 좁게 함으로써 큰 노광 면적을 확보할 수 있음과 아울러 펠리클의 제조 중이나 수송 중 등에 펠리클 프레임의 변형이 없음과 아울러 펠리클막의 주름의 발생도 없고, 원하는 치수 정밀도로 포토마스크에 부착이 가능한 펠리클을 제공하는 것이다. [해결 수단] 본 발명은 펠리클 프레임이 안쪽 프레임 및 바깥쪽 프레임의 2중 구조를 이루고 있고, 상기 안쪽 프레임은 펠리클막을 장설 유지함과 아울러 마스크 점착층을 갖는 것이며, 상기 바깥쪽 프레임은 상기 안쪽 프레임에 밀착됨과 아울러 상기 안쪽...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BASIC ELECTRIC ELEMENTS CINEMATOGRAPHY ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS SEMICONDUCTOR DEVICES
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