PELLICLE
[과제] 본 발명은 펠리클 프레임의 폭을 극한까지 좁게 함으로써 큰 노광 면적을 확보할 수 있음과 아울러 펠리클의 제조 중이나 수송 중 등에 펠리클 프레임의 변형이 없음과 아울러 펠리클막의 주름의 발생도 없고, 원하는 치수 정밀도로 포토마스크에 부착이 가능한 펠리클을 제공하는 것이다. [해결 수단] 본 발명은 펠리클 프레임이 안쪽 프레임 및 바깥쪽 프레임의 2중 구조를 이루고 있고, 상기 안쪽 프레임은 펠리클막을 장설 유지함과 아울러 마스크 점착층을 갖는 것이며, 상기 바깥쪽 프레임은 상기 안쪽 프레임에 밀착됨과 아울러 상기 안쪽...
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| Format: | Patent |
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| Sprache: | eng ; kor |
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| description | [과제] 본 발명은 펠리클 프레임의 폭을 극한까지 좁게 함으로써 큰 노광 면적을 확보할 수 있음과 아울러 펠리클의 제조 중이나 수송 중 등에 펠리클 프레임의 변형이 없음과 아울러 펠리클막의 주름의 발생도 없고, 원하는 치수 정밀도로 포토마스크에 부착이 가능한 펠리클을 제공하는 것이다. [해결 수단] 본 발명은 펠리클 프레임이 안쪽 프레임 및 바깥쪽 프레임의 2중 구조를 이루고 있고, 상기 안쪽 프레임은 펠리클막을 장설 유지함과 아울러 마스크 점착층을 갖는 것이며, 상기 바깥쪽 프레임은 상기 안쪽 프레임에 밀착됨과 아울러 상기 안쪽 프레임으로부터 분리 가능하게 구성되어 있는 것을 특징으로 한다.
A pellicle is proposed in which the frame is composed of a detachable double structure of an inner frame and an outer frame, and the pellicle membrane is adhered only to the inner frame and the photomask-agglutination layer is laid only to the inner frame, and the outer frame is removed from the inner frame after the pellicle is agglutinated to the photomask. |
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A pellicle is proposed in which the frame is composed of a detachable double structure of an inner frame and an outer frame, and the pellicle membrane is adhered only to the inner frame and the photomask-agglutination layer is laid only to the inner frame, and the outer frame is removed from the inner frame after the pellicle is agglutinated to the photomask.</description><language>eng ; kor</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; CINEMATOGRAPHY ; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ; ELECTRICITY ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; MATERIALS THEREFOR ; ORIGINALS THEREFOR ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS ; SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><creationdate>2020</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20200519&DB=EPODOC&CC=KR&NR=102112516B1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25562,76317</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20200519&DB=EPODOC&CC=KR&NR=102112516B1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><title>PELLICLE</title><description>[과제] 본 발명은 펠리클 프레임의 폭을 극한까지 좁게 함으로써 큰 노광 면적을 확보할 수 있음과 아울러 펠리클의 제조 중이나 수송 중 등에 펠리클 프레임의 변형이 없음과 아울러 펠리클막의 주름의 발생도 없고, 원하는 치수 정밀도로 포토마스크에 부착이 가능한 펠리클을 제공하는 것이다. [해결 수단] 본 발명은 펠리클 프레임이 안쪽 프레임 및 바깥쪽 프레임의 2중 구조를 이루고 있고, 상기 안쪽 프레임은 펠리클막을 장설 유지함과 아울러 마스크 점착층을 갖는 것이며, 상기 바깥쪽 프레임은 상기 안쪽 프레임에 밀착됨과 아울러 상기 안쪽 프레임으로부터 분리 가능하게 구성되어 있는 것을 특징으로 한다.
A pellicle is proposed in which the frame is composed of a detachable double structure of an inner frame and an outer frame, and the pellicle membrane is adhered only to the inner frame and the photomask-agglutination layer is laid only to the inner frame, and the outer frame is removed from the inner frame after the pellicle is agglutinated to the photomask.</description><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</subject><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</subject><subject>CINEMATOGRAPHY</subject><subject>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</subject><subject>ELECTRICITY</subject><subject>ELECTROGRAPHY</subject><subject>HOLOGRAPHY</subject><subject>MATERIALS THEREFOR</subject><subject>ORIGINALS THEREFOR</subject><subject>PHOTOGRAPHY</subject><subject>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</subject><subject>PHYSICS</subject><subject>SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2020</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZOAIcPXx8XT2ceVhYE1LzClO5YXS3AzKbq4hzh66qQX58anFBYnJqXmpJfHeQYYGRoaGRqaGZk5OhsbEqQIAifwcIw</recordid><startdate>20200519</startdate><enddate>20200519</enddate><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20200519</creationdate><title>PELLICLE</title></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_KR102112516BB13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; kor</language><creationdate>2020</creationdate><topic>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</topic><topic>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</topic><topic>CINEMATOGRAPHY</topic><topic>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</topic><topic>ELECTRICITY</topic><topic>ELECTROGRAPHY</topic><topic>HOLOGRAPHY</topic><topic>MATERIALS THEREFOR</topic><topic>ORIGINALS THEREFOR</topic><topic>PHOTOGRAPHY</topic><topic>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</topic><topic>PHYSICS</topic><topic>SEMICONDUCTOR DEVICES</topic><toplevel>online_resources</toplevel><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>PELLICLE</title><date>2020-05-19</date><risdate>2020</risdate><abstract>[과제] 본 발명은 펠리클 프레임의 폭을 극한까지 좁게 함으로써 큰 노광 면적을 확보할 수 있음과 아울러 펠리클의 제조 중이나 수송 중 등에 펠리클 프레임의 변형이 없음과 아울러 펠리클막의 주름의 발생도 없고, 원하는 치수 정밀도로 포토마스크에 부착이 가능한 펠리클을 제공하는 것이다. [해결 수단] 본 발명은 펠리클 프레임이 안쪽 프레임 및 바깥쪽 프레임의 2중 구조를 이루고 있고, 상기 안쪽 프레임은 펠리클막을 장설 유지함과 아울러 마스크 점착층을 갖는 것이며, 상기 바깥쪽 프레임은 상기 안쪽 프레임에 밀착됨과 아울러 상기 안쪽 프레임으로부터 분리 가능하게 구성되어 있는 것을 특징으로 한다.
A pellicle is proposed in which the frame is composed of a detachable double structure of an inner frame and an outer frame, and the pellicle membrane is adhered only to the inner frame and the photomask-agglutination layer is laid only to the inner frame, and the outer frame is removed from the inner frame after the pellicle is agglutinated to the photomask.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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