MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE

본 발명은 고집적 반도체 소자의 접속장치에 관한 것으로 실리콘 기판에 절연막이 형성되고, 이 절연막이 제거된 버리드 콘택영역을 통해 상부에 형성되는 도전층 패턴이 실리콘 기판으로 콘택되는 접속장치에서, 도전층 패턴을 형성하는 식각공정시 도전층 패턴의 측면의 노출되는 실리콘 기판에 홈이 형성되는 것을 방지하기 위해 절연막의 버리드 콘택영역을 작게 하는 기술에 관한 것이다....

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	KIM, HAK-YOUL, CHOU, YOUNG-KEN, WHANG, JUN
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY SEMICONDUCTOR DEVICES
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