TEMPERATURE CONTROL FOR INSERTABLE TARGET HOLDER FOR SOLID DOPANT MATERIAL

To disclose an ion source with a target holder for holding a solid dopant material.SOLUTION: An ion source comprises a thermocouple disposed proximate to a target holder to monitor the temperature of a solid dopant material. In certain embodiments, a controller uses the temperature information to va...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: CRAIG R CHANEY, SHREYANSH P PATEL, DANIEL R TIEGER, DANIEL ALVARADO, GRAHAM WRIGHT, BENJAMIN OSWALD, BRIAN S GORI, WILLIAM R BOGIAGES JR
Format: Patent
Sprache:eng ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:To disclose an ion source with a target holder for holding a solid dopant material.SOLUTION: An ion source comprises a thermocouple disposed proximate to a target holder to monitor the temperature of a solid dopant material. In certain embodiments, a controller uses the temperature information to vary one or more parameters of the ion source, such as arc voltage, cathode bias voltage, extracted beam current, or the position of the target holder within an arc chamber. Various embodiments showing the connections between the controller and the thermocouple are shown. Further, embodiments showing various placement of the thermocouple on the target holder are also presented.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】固体ドーパント材料を保持するためのターゲットホルダを有するイオン源が開示される。【解決手段】イオン源は、固体ドーパント材料の温度をモニタするために、ターゲットホルダに近接して配置された熱電対を備える。特定の実施形態では、コントローラが、この温度情報を使用して、アーク電圧、カソードバイアス電圧、抽出されるビーム電流、又はアークチャンバ内のターゲットホルダの位置などの、イオン源の1以上のパラメータを変化させる。コントローラと熱電対との間の接続を示す様々な実施形態が示される。更に、ターゲットホルダ上の熱電対の様々な配置を示す実施形態も提示される。【選択図】図1