MANUFACTURING METHOD OF SOLDER CHIP, SOLDER CHIP AND JUNCTION LAYER EVALUATION DEVICE USING THE SAME

To evaluate the deterioration and lifetime of a junction layer by quantitatively evaluating the junction layer.SOLUTION: On a SiC substrate 106, a thin film heater 117 consisting of Ni-P is formed between a terminal electrode 115a and a terminal electrode 115b, and a temperature probe 116 consisting...

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1. Verfasser: OYA REIJI
Format: Patent
Sprache:eng ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:To evaluate the deterioration and lifetime of a junction layer by quantitatively evaluating the junction layer.SOLUTION: On a SiC substrate 106, a thin film heater 117 consisting of Ni-P is formed between a terminal electrode 115a and a terminal electrode 115b, and a temperature probe 116 consisting of Ni-P is formed between a terminal electrode 114a and a terminal electrode 114b. The SiC substrate 106 and a copper plate are connected by sintered Ag paste. Solder chips 136a-136d are mounted in the terminal electrodes 114 and the terminal electrodes 115, and a junction layer is formed in a state where an indium containing layer is formed on a layer opposed with the junction layer. A constant current is supplied from a TM DC power supply device to the thin film heater 117 via the terminal electrodes 115a and 115b. A constant current is supplied from an EM DC power supply device to a current application passage.SELECTED DRAWING: Figure 2 【課題】接合層を定量的に評価することにより、接合層の劣化および寿命の評価する。【解決手段】SiC基板106に、端子電極115a、端子電極115b間にNi−Pからなる薄膜ヒーター117、端子電極114a、端子電極114b間にNi−Pからなる温度プローブ116が形成される。SiC基板106と銅プレートとは焼結Agペーストで接続されている。端子電極および端子電極には半田チップ136a〜136dが実装され、接合層と面する層に、インジウムを含有する層が形成された状態で、接合層が形成される。端子電極115a、115bを介して、TM用直流電源装置から定電流が、薄膜ヒーター117に供給される。電流印加経路には、EM用直流電源装置から定電流が供給される。【選択図】図2