SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

To provide a substrate processing apparatus in which crystals (salts) are less likely to be generated in an exhaust pipe.SOLUTION: A substrate processing apparatus 100 includes a board holding unit 3, a board rotating unit 4, a processing liquid supply unit 11, a guard unit 5a, an exhaust unit 7, and an opening/closing unit 5b. The exhaust unit 7 includes a plurality of downstream exhaust ports 71a to 71c. The exhaust unit 7 is arranged inside the guard unit 5a. The opening/closing unit 5b opens/closes a plurality of downstream exhaust ports 71a to 71c. The guard unit 5a includes a guard 51 and a liquid receiving unit 522. The guard 51 receives processing liquid. The liquid receiving unit 522 receives processing liquid received by the guard 51. The opening/closing unit 5b opens/closes the plurality of downstream exhaust ports 71a to 71c such that gas generated from the liquid receiving unit 522 flows into one of the plurality of downstream exhaust ports 71a to 71c. The guard unit 5a and the opening/closing unit 5b operate independently of each other.SELECTED DRAWING: Figure 3 【課題】排気管において結晶（塩）が発生し難い基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置１００は、基板保持部３と、基板回転部４と、処理液供給部１１と、ガード部５ａと、排気部７と、開閉部５ｂとを備える。排気部７は、複数の下流側排気ポート７１ａ〜７１ｃを有する。排気部７は、ガード部５ａの内側に配置される。開閉部５ｂは、複数の下流側排気ポート７１ａ〜７１ｃを開閉する。ガード部５ａは、ガード５１と、液受け部５２２とを有する。ガード５１は、処理液を受け止める。液受け部５２２は、ガード５１が受け止めた処理液を受ける。開閉部５ｂは、液受け部５２２から発生するガスが複数の下流側排気ポート７１ａ〜７１ｃのうちの１つに流入するように複数の下流側排気ポート７１ａ〜７１ｃを開閉する。ガード部５ａ及び開閉部５ｂは互いに独立して動作する。【選択図】図３