SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

To restrain air turbulence in the proximity of outer boundary edge of a substrate.SOLUTION: A substrate processing apparatus 1 includes a substrate holding part 2, a substrate rotation mechanism 3, and a blockage plate 51. The blockage plate 51 is placed at a processing position close to the top face 91 of a substrate 9 when processing the substrate 9. The substrate holding part 2 includes a holding base 21, multiple support parts 22, and an outer peripheral ring part 23. The holding base 21 is placed below the substrate 9. The multiple support parts 22 have multiple abutment parts 224 abutting on the outer peripheral edge of the substrate 9 when holding, respectively, and are arranged in the hoop direction on the holding base 21. The outer peripheral ring part 23 is an annular plate member surrounding the substrate 9 in a state where the inner peripheral edge is close to the outer peripheral edge of the substrate 9, and covers at least a part of each support part 22, and the blockage plate 51 and at least a part thereof overlap in the plan view. With such an arrangement, air turbulence in the proximity of outer boundary edge of the substrate 9 can be restrained.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】基板の外周縁近傍における気流の乱れを抑制する。【解決手段】基板処理装置１は、基板保持部２と、基板回転機構３と、遮断板５１とを備える。遮断板５１は、基板９を処理する際に基板９の上面９１に近接した処理位置に配置される。基板保持部２は、保持ベース２１と、複数の支持部２２と、外周リング部２３とを備える。保持ベース２１は、基板９の下方に配置される。複数の支持部２２は、基板９の保持時に基板９の外周縁に当接する複数の当接部２２４をそれぞれ有し、保持ベース２１上において周方向に配列される。外周リング部２３は、内周縁が基板９の外周縁に近接した状態で基板９の周囲を囲む環状の板部材であり、各支持部２２の少なくとも一部を覆い、かつ、遮断板５１とその少なくとも一部が平面視において重なる。これにより、基板９の外周縁近傍における気流の乱れを抑制することができる。【選択図】図１