IMPRINT LITHOGRAPHY

To provide an imprint lithography apparatus which reduces the magnitude and/or frequency of positional errors of an imprint lithography template with respect to a target portion of a substrate.SOLUTION: An imprint lithography apparatus includes: a first frame to be mounted on a floor; a second frame...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: GREGOR EDWARD VAN BAARS, RENKENS MICHAEL JOZEF MATHIJS, JEUNINK ANDRE BERNARDUS, HARDEMAN TOON, DE SCHIFFART CATHARINUS, WUISTER SANDER FREDERIK, JANSEN NORBERT ERWIN THERENZO, GERARD VAN SCHOTHORST, KRUIJT-STEGEMAN YVONNE WENDELA, DIJKSMAN JOHAN FREDERIK, GEORGE ARIE JAN DE FOCKERT
Format: Patent
Sprache:eng ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:To provide an imprint lithography apparatus which reduces the magnitude and/or frequency of positional errors of an imprint lithography template with respect to a target portion of a substrate.SOLUTION: An imprint lithography apparatus includes: a first frame to be mounted on a floor; a second frame mounted on the first frame via a kinematic coupling; an alignment sensor mounted on the second frame, to align an imprint lithography template arrangement with a target position of a substrate; and a position sensor to measure a position of the imprint lithography template arrangement and/or a substrate stage with respect to the second frame.SELECTED DRAWING: Figure 3 【課題】基板のターゲット部分に対するインプリントリソグラフィテンプレートの位置の誤差の大きさ及び/又は頻度を低減するインプリントリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】床に装着する第1のフレームと、キネマティックカップリングを介して第1のフレーム上に装着された第2のフレームと、インプリントリソグラフィテンプレートアレンジメントを基板のターゲット位置に整列させる第2のフレーム上に装着されたアライメントセンサと、第2のフレームに対するインプリントリソグラフィテンプレートアレンジメント及び/又は基板ステージの位置を測定する位置センサと、を有するインプリントリソグラフィ装置。【選択図】図3