POLISHING PAD AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a polishing pad capable of making a polishing speed uniform to improve surface quality of a polishing object by easily controlling the size of pores and porosity of a porous polishing pad.SOLUTION: A method for manufacturing a porous polishing pad comprises steps of: adding a hydrophilic polymer on a pre-polymer; and generating carbon dioxide by reaction between the pre-polymer and the hydrophilic polymer to form pores in the pre-polymer. A degree of the reaction between the pre-polymer and the hydrophilic polymer can be controlled, and generation rate of carbon dioxide can be adjusted by adjusting the temperature, agitation speed, agitation time, etc. of the reaction.SELECTED DRAWING: None 【課題】多孔性研磨パッドの気孔の大きさと気孔率を容易に制御することで、研磨速度を均一にし、研磨対象の表面品質を向上できる研磨パッドの製造方法を提供する。【解決手段】多孔性研磨パッドの製造方法は、プレポリマ上に親水性高分子物質を添加するステップと、前記プレポリマと前記親水性高分子物質との反応によって、二酸化炭素を発生させ、前記プレポリマ内に気孔を形成するステップとを含む。前記反応の温度、攪拌速度、攪拌時間などを調節することによってプレポリマと親水性高分子物質との反応の程度を制御し、二酸化炭素の発生量を調節することができる。【選択図】なし