SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor integrated circuit device having a MOS transistor formed on a SOI substrate, capable of stabilizing the circuit operation without thickening a BOX oxide film and a silicon layer on the SOI substrate even when a power source voltage applied to the semi...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: NEGORO TAKAAKI
Format: Patent
Sprache:eng
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