Filtre optique et procédé de fabrication correspondant
Filtre optique (FLT1) comportant : une couche de support (CS) comprenant un premier matériau (MAT1), un réseau périodique (RP) de plots disposés sur la couche de support selon un motif périodique paramétré par des dimensions caractéristiques (H, D, P), les plots comprenant un deuxième matériau (MAT2...
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| creator | ZOLL, Stéphane MONFRAY STÉPHANE ZOLL STÉPHANE LE NEEL OLIVIER LE NEEL, Olivier MONFRAY, Stéphane |
| description | Filtre optique (FLT1) comportant : une couche de support (CS) comprenant un premier matériau (MAT1), un réseau périodique (RP) de plots disposés sur la couche de support selon un motif périodique paramétré par des dimensions caractéristiques (H, D, P), les plots comprenant un deuxième matériau (MAT2), une couche comprenant un troisième matériau (MAT3) englobant le réseau périodique de plots et recouvrant la couche de support, le troisième matériau ayant un indice optique différent d'un indice optique du deuxième matériau. Dans lequel les dimensions caractéristiques du réseau périodique de plots sont inférieures à une longueur d'onde parasite et configurées pour réfléchir sélectivement la lumière à la longueur d'onde parasite sur le réseau périodique de plots. Figure pour l'abrégé : Fig 1E
An optical filter includes a carrier layer made of a first material. A periodic grating of posts is disposed on the carrier layer in a periodic pattern configured by characteristic dimensions. The posts are made of a second material. A layer made of a third material encompasses the periodic grating of posts and covers the carrier layer. The third material has a refractive index that is different from a refractive index of the second material. Characteristic dimensions of the periodic grating of posts are smaller than an interfering wavelength and are configured to selectively reflect light at the interfering wavelength on the periodic grating of posts. |
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An optical filter includes a carrier layer made of a first material. A periodic grating of posts is disposed on the carrier layer in a periodic pattern configured by characteristic dimensions. The posts are made of a second material. A layer made of a third material encompasses the periodic grating of posts and covers the carrier layer. The third material has a refractive index that is different from a refractive index of the second material. Characteristic dimensions of the periodic grating of posts are smaller than an interfering wavelength and are configured to selectively reflect light at the interfering wavelength on the periodic grating of posts.</description><language>fre</language><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ; ELECTRICITY ; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS ; OPTICS ; PHYSICS ; SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><creationdate>2023</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20230623&DB=EPODOC&CC=FR&NR=3114169B1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25542,76289</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20230623&DB=EPODOC&CC=FR&NR=3114169B1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>ZOLL, Stéphane</creatorcontrib><creatorcontrib>MONFRAY STÉPHANE</creatorcontrib><creatorcontrib>ZOLL STÉPHANE</creatorcontrib><creatorcontrib>LE NEEL OLIVIER</creatorcontrib><creatorcontrib>LE NEEL, Olivier</creatorcontrib><creatorcontrib>MONFRAY, Stéphane</creatorcontrib><title>Filtre optique et procédé de fabrication correspondant</title><description>Filtre optique (FLT1) comportant : une couche de support (CS) comprenant un premier matériau (MAT1), un réseau périodique (RP) de plots disposés sur la couche de support selon un motif périodique paramétré par des dimensions caractéristiques (H, D, P), les plots comprenant un deuxième matériau (MAT2), une couche comprenant un troisième matériau (MAT3) englobant le réseau périodique de plots et recouvrant la couche de support, le troisième matériau ayant un indice optique différent d'un indice optique du deuxième matériau. Dans lequel les dimensions caractéristiques du réseau périodique de plots sont inférieures à une longueur d'onde parasite et configurées pour réfléchir sélectivement la lumière à la longueur d'onde parasite sur le réseau périodique de plots. Figure pour l'abrégé : Fig 1E
An optical filter includes a carrier layer made of a first material. A periodic grating of posts is disposed on the carrier layer in a periodic pattern configured by characteristic dimensions. The posts are made of a second material. A layer made of a third material encompasses the periodic grating of posts and covers the carrier layer. The third material has a refractive index that is different from a refractive index of the second material. Characteristic dimensions of the periodic grating of posts are smaller than an interfering wavelength and are configured to selectively reflect light at the interfering wavelength on the periodic grating of posts.</description><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</subject><subject>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</subject><subject>ELECTRICITY</subject><subject>OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS</subject><subject>OPTICS</subject><subject>PHYSICS</subject><subject>SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2023</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZLBwy8wpKUpVyC8oySwsTVVILVEoKMpPPrwy5fBKhZRUhbTEpKLM5MSSzPw8heT8oqLU4oL8vJTEvBIeBta0xJziVF4ozc2g4OYa4uyhm1qQHw9UlZicmpdaEu8WZGxoaGJoZulkaEyEEgBjCy-E</recordid><startdate>20230623</startdate><enddate>20230623</enddate><creator>ZOLL, Stéphane</creator><creator>MONFRAY STÉPHANE</creator><creator>ZOLL STÉPHANE</creator><creator>LE NEEL OLIVIER</creator><creator>LE NEEL, Olivier</creator><creator>MONFRAY, Stéphane</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20230623</creationdate><title>Filtre optique et procédé de fabrication correspondant</title><author>ZOLL, Stéphane ; MONFRAY STÉPHANE ; ZOLL STÉPHANE ; LE NEEL OLIVIER ; LE NEEL, Olivier ; MONFRAY, Stéphane</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_FR3114169B13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>fre</language><creationdate>2023</creationdate><topic>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</topic><topic>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</topic><topic>ELECTRICITY</topic><topic>OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS</topic><topic>OPTICS</topic><topic>PHYSICS</topic><topic>SEMICONDUCTOR DEVICES</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>ZOLL, Stéphane</creatorcontrib><creatorcontrib>MONFRAY STÉPHANE</creatorcontrib><creatorcontrib>ZOLL STÉPHANE</creatorcontrib><creatorcontrib>LE NEEL OLIVIER</creatorcontrib><creatorcontrib>LE NEEL, Olivier</creatorcontrib><creatorcontrib>MONFRAY, Stéphane</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>ZOLL, Stéphane</au><au>MONFRAY STÉPHANE</au><au>ZOLL STÉPHANE</au><au>LE NEEL OLIVIER</au><au>LE NEEL, Olivier</au><au>MONFRAY, Stéphane</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>Filtre optique et procédé de fabrication correspondant</title><date>2023-06-23</date><risdate>2023</risdate><abstract>Filtre optique (FLT1) comportant : une couche de support (CS) comprenant un premier matériau (MAT1), un réseau périodique (RP) de plots disposés sur la couche de support selon un motif périodique paramétré par des dimensions caractéristiques (H, D, P), les plots comprenant un deuxième matériau (MAT2), une couche comprenant un troisième matériau (MAT3) englobant le réseau périodique de plots et recouvrant la couche de support, le troisième matériau ayant un indice optique différent d'un indice optique du deuxième matériau. Dans lequel les dimensions caractéristiques du réseau périodique de plots sont inférieures à une longueur d'onde parasite et configurées pour réfléchir sélectivement la lumière à la longueur d'onde parasite sur le réseau périodique de plots. Figure pour l'abrégé : Fig 1E
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