PUCE PHOTONIQUE TRAVERSEE PAR UN VIA

Puce photonique comportant : - une couche optique (38) collée, au niveau d'une interface (40) de collage, sur une couche (36) d'interconnexion, l'épaisseur de la couche optique étant inférieure à 15 µm, - un via primaire (50-52) s'étend à travers la couche d'interconnexion uniquement entre une face inférieure (34) et l'interface (40) de collage, - une borne électrique choisie dans le groupe constitué d'un contact électrique (74) enfoui à l'intérieur de la couche optique (38) et d'une piste électrique (106, 108) réalisée sur une face supérieure, - un via secondaire (100, 102, 130) qui prolonge le via primaire à l'intérieur de la couche optique pour raccorder électriquement le via primaire à la borne électrique, ce via secondaire s'étendant à l'intérieur de la couche optique (38) depuis l'interface (40) de collage jusqu'à la borne électrique, le diamètre maximal de ce via secondaire étant inférieur à 3 µm. A photonic chip includes an optical layer bonded, via a bonding interface, to a carrier, and a laser source having a waveguide encapsulated in an encapsulating sublayer of the optical layer, the waveguide having a first electrical contact embedded in the encapsulating sublayer. The photonic chip also includes an interconnect metal network forming a via that extends, in the optical layer, from the bonding interface to the first embedded electrical contact of the waveguide, the interconnect metal network having metal vias that electrically connect to one another metals lines that extend mainly parallel to the plane of the chip, the metal lines being arranged one above the other within the optical layer.