PROCEDE DE PROJECTION D'UN FAISCEAU DE PARTICULES SUR UN SUBSTRAT AVEC CORRECTION DES EFFETS DE DIFFUSION
A method for projecting a particle beam onto a substrate, the method includes a step of calculating a correction of the scattering effects of the beam by means of a point spread function modelling the forward scattering effects of the particles; a step of modifying a dose profile of the beam, implem...
Gespeichert in:
1. Verfasser: | |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | fre |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Schreiben Sie den ersten Kommentar!