PROCEDE ET DISPOSITIF DE POMPAGE D'UNE CHAMBRE DE PROCEDES
La présente invention concerne un dispositif de pompage destiné à être raccordé à une chambre de procédés (2) comportant une pompe à vide primaire sèche (3), un moyen de pompage auxiliaire (4) monté en dérivation d'un clapet anti-retour (13) de la pompe à vide (3), un premier dispositif à vanne...
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Format: | Patent |
Sprache: | fre |
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creator | SEIGEOT BERTRAND |
description | La présente invention concerne un dispositif de pompage destiné à être raccordé à une chambre de procédés (2) comportant une pompe à vide primaire sèche (3), un moyen de pompage auxiliaire (4) monté en dérivation d'un clapet anti-retour (13) de la pompe à vide (3), un premier dispositif à vanne (5) raccordé à un moyen de purge (11) de la pompe à vide primaire sèche (3) et destiné à être raccordé à une alimentation en gaz (14), un deuxième dispositif à vanne (6) monté en dérivation du clapet anti-retour (13), en amont du moyen de pompage auxiliaire (4), et un moyen de contrôle configuré pour contrôler le premier et le deuxième dispositifs à vanne (5, 6) en fonction d'un état de fonctionnement de la chambre de procédés (2) de sorte que le premier dispositif à vanne (5) soit au moins partiellement fermé et le deuxième dispositif à vanne (6) soit ouvert lorsque la chambre de procédés (2) est en fonctionnement de vide limite. La présente invention concerne également un procédé de pompage d'une chambre de procédés (2) au moyen d'un tel dispositif de pompage (1).
A pumping device intended to be connected to a process chamber (2) includes a dry primary vacuum pump, an auxiliary pump mounted so that the auxiliary pump bypasses a check valve on the vacuum pump, a first valve device connected to a purging device for purging the dry primary vacuum pump and intended to be connected to a gas supply, a second valve device mounted so that the second valve device bypasses a check valve upstream from the auxiliary pump, and a controller configured to control the first and second valve devices on the basis of an operating status of the process chamber in such a way that the first valve device is at least partially closed and the second valve device is open when the process chamber is operating at ultimate vacuum. Also a method for pumping of a process chamber by way of such a pumping device. |
format | Patent |
fullrecord | <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_FR2993614A1</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>FR2993614A1</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_FR2993614A13</originalsourceid><addsrcrecordid>eNrjZLAKCPJ3dnVxVXANUXDxDA7wD_YM8XRTAAoE-PsGOLq7Krioh_q5Kjh7OPo6BbmCJSA6gnkYWNMSc4pTeaE0N4OCm2uIs4duakF-fGpxQWJyal5qSbxbkJGlpbGZoYmjoTERSgAptCgh</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>PROCEDE ET DISPOSITIF DE POMPAGE D'UNE CHAMBRE DE PROCEDES</title><source>esp@cenet</source><creator>SEIGEOT BERTRAND</creator><creatorcontrib>SEIGEOT BERTRAND</creatorcontrib><description>La présente invention concerne un dispositif de pompage destiné à être raccordé à une chambre de procédés (2) comportant une pompe à vide primaire sèche (3), un moyen de pompage auxiliaire (4) monté en dérivation d'un clapet anti-retour (13) de la pompe à vide (3), un premier dispositif à vanne (5) raccordé à un moyen de purge (11) de la pompe à vide primaire sèche (3) et destiné à être raccordé à une alimentation en gaz (14), un deuxième dispositif à vanne (6) monté en dérivation du clapet anti-retour (13), en amont du moyen de pompage auxiliaire (4), et un moyen de contrôle configuré pour contrôler le premier et le deuxième dispositifs à vanne (5, 6) en fonction d'un état de fonctionnement de la chambre de procédés (2) de sorte que le premier dispositif à vanne (5) soit au moins partiellement fermé et le deuxième dispositif à vanne (6) soit ouvert lorsque la chambre de procédés (2) est en fonctionnement de vide limite. La présente invention concerne également un procédé de pompage d'une chambre de procédés (2) au moyen d'un tel dispositif de pompage (1).
A pumping device intended to be connected to a process chamber (2) includes a dry primary vacuum pump, an auxiliary pump mounted so that the auxiliary pump bypasses a check valve on the vacuum pump, a first valve device connected to a purging device for purging the dry primary vacuum pump and intended to be connected to a gas supply, a second valve device mounted so that the second valve device bypasses a check valve upstream from the auxiliary pump, and a controller configured to control the first and second valve devices on the basis of an operating status of the process chamber in such a way that the first valve device is at least partially closed and the second valve device is open when the process chamber is operating at ultimate vacuum. Also a method for pumping of a process chamber by way of such a pumping device.</description><language>fre</language><subject>BLASTING ; HEATING ; LIGHTING ; MECHANICAL ENGINEERING ; POSITIVE DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS ; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS ; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENTMACHINES FOR LIQUIDS ; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENTPUMPS ; WEAPONS</subject><creationdate>2014</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20140124&DB=EPODOC&CC=FR&NR=2993614A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25542,76290</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20140124&DB=EPODOC&CC=FR&NR=2993614A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>SEIGEOT BERTRAND</creatorcontrib><title>PROCEDE ET DISPOSITIF DE POMPAGE D'UNE CHAMBRE DE PROCEDES</title><description>La présente invention concerne un dispositif de pompage destiné à être raccordé à une chambre de procédés (2) comportant une pompe à vide primaire sèche (3), un moyen de pompage auxiliaire (4) monté en dérivation d'un clapet anti-retour (13) de la pompe à vide (3), un premier dispositif à vanne (5) raccordé à un moyen de purge (11) de la pompe à vide primaire sèche (3) et destiné à être raccordé à une alimentation en gaz (14), un deuxième dispositif à vanne (6) monté en dérivation du clapet anti-retour (13), en amont du moyen de pompage auxiliaire (4), et un moyen de contrôle configuré pour contrôler le premier et le deuxième dispositifs à vanne (5, 6) en fonction d'un état de fonctionnement de la chambre de procédés (2) de sorte que le premier dispositif à vanne (5) soit au moins partiellement fermé et le deuxième dispositif à vanne (6) soit ouvert lorsque la chambre de procédés (2) est en fonctionnement de vide limite. La présente invention concerne également un procédé de pompage d'une chambre de procédés (2) au moyen d'un tel dispositif de pompage (1).
A pumping device intended to be connected to a process chamber (2) includes a dry primary vacuum pump, an auxiliary pump mounted so that the auxiliary pump bypasses a check valve on the vacuum pump, a first valve device connected to a purging device for purging the dry primary vacuum pump and intended to be connected to a gas supply, a second valve device mounted so that the second valve device bypasses a check valve upstream from the auxiliary pump, and a controller configured to control the first and second valve devices on the basis of an operating status of the process chamber in such a way that the first valve device is at least partially closed and the second valve device is open when the process chamber is operating at ultimate vacuum. Also a method for pumping of a process chamber by way of such a pumping device.</description><subject>BLASTING</subject><subject>HEATING</subject><subject>LIGHTING</subject><subject>MECHANICAL ENGINEERING</subject><subject>POSITIVE DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS</subject><subject>PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS</subject><subject>ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENTMACHINES FOR LIQUIDS</subject><subject>ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENTPUMPS</subject><subject>WEAPONS</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2014</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZLAKCPJ3dnVxVXANUXDxDA7wD_YM8XRTAAoE-PsGOLq7Krioh_q5Kjh7OPo6BbmCJSA6gnkYWNMSc4pTeaE0N4OCm2uIs4duakF-fGpxQWJyal5qSbxbkJGlpbGZoYmjoTERSgAptCgh</recordid><startdate>20140124</startdate><enddate>20140124</enddate><creator>SEIGEOT BERTRAND</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20140124</creationdate><title>PROCEDE ET DISPOSITIF DE POMPAGE D'UNE CHAMBRE DE PROCEDES</title><author>SEIGEOT BERTRAND</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_FR2993614A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>fre</language><creationdate>2014</creationdate><topic>BLASTING</topic><topic>HEATING</topic><topic>LIGHTING</topic><topic>MECHANICAL ENGINEERING</topic><topic>POSITIVE DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS</topic><topic>PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS</topic><topic>ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENTMACHINES FOR LIQUIDS</topic><topic>ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENTPUMPS</topic><topic>WEAPONS</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>SEIGEOT BERTRAND</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>SEIGEOT BERTRAND</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>PROCEDE ET DISPOSITIF DE POMPAGE D'UNE CHAMBRE DE PROCEDES</title><date>2014-01-24</date><risdate>2014</risdate><abstract>La présente invention concerne un dispositif de pompage destiné à être raccordé à une chambre de procédés (2) comportant une pompe à vide primaire sèche (3), un moyen de pompage auxiliaire (4) monté en dérivation d'un clapet anti-retour (13) de la pompe à vide (3), un premier dispositif à vanne (5) raccordé à un moyen de purge (11) de la pompe à vide primaire sèche (3) et destiné à être raccordé à une alimentation en gaz (14), un deuxième dispositif à vanne (6) monté en dérivation du clapet anti-retour (13), en amont du moyen de pompage auxiliaire (4), et un moyen de contrôle configuré pour contrôler le premier et le deuxième dispositifs à vanne (5, 6) en fonction d'un état de fonctionnement de la chambre de procédés (2) de sorte que le premier dispositif à vanne (5) soit au moins partiellement fermé et le deuxième dispositif à vanne (6) soit ouvert lorsque la chambre de procédés (2) est en fonctionnement de vide limite. La présente invention concerne également un procédé de pompage d'une chambre de procédés (2) au moyen d'un tel dispositif de pompage (1).
A pumping device intended to be connected to a process chamber (2) includes a dry primary vacuum pump, an auxiliary pump mounted so that the auxiliary pump bypasses a check valve on the vacuum pump, a first valve device connected to a purging device for purging the dry primary vacuum pump and intended to be connected to a gas supply, a second valve device mounted so that the second valve device bypasses a check valve upstream from the auxiliary pump, and a controller configured to control the first and second valve devices on the basis of an operating status of the process chamber in such a way that the first valve device is at least partially closed and the second valve device is open when the process chamber is operating at ultimate vacuum. Also a method for pumping of a process chamber by way of such a pumping device.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
fulltext | fulltext_linktorsrc |
identifier | |
ispartof | |
issn | |
language | fre |
recordid | cdi_epo_espacenet_FR2993614A1 |
source | esp@cenet |
subjects | BLASTING HEATING LIGHTING MECHANICAL ENGINEERING POSITIVE DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENTMACHINES FOR LIQUIDS ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENTPUMPS WEAPONS |
title | PROCEDE ET DISPOSITIF DE POMPAGE D'UNE CHAMBRE DE PROCEDES |
url | https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-02-03T05%3A56%3A01IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=SEIGEOT%20BERTRAND&rft.date=2014-01-24&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EFR2993614A1%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true |