PROCEDE DE DETECTION DE DEFAUTS ET MOYENS DE MEMOIRE POUR LA MISE EN OEUVRE DE CELUI-CI
La présente invention concerne un procédé de détection de défauts. Il comprend les étapes consistant à : (a) acquérir (310) une première image d'un objet à inspecter et une deuxième image associée; (b) aligner (320) la première image avec la deuxième image; (c) créer (330) un premier tracé en t...
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| Format: | Patent |
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| creator | AGHAJAN HAMID K |
| description | La présente invention concerne un procédé de détection de défauts. Il comprend les étapes consistant à : (a) acquérir (310) une première image d'un objet à inspecter et une deuxième image associée; (b) aligner (320) la première image avec la deuxième image; (c) créer (330) un premier tracé en traçant les niveaux de gris des pixels provenant de la première image en fonction des niveaux de gris des pixels correspondants provenant de la deuxième image; (d) créer (340) un deuxième tracé en filtrant le premier tracé; (e) créer (350) un masque tel que le profil du masque est défini par la configuration du deuxième tracé; et (f) utiliser (380) le masque pour détecter des défauts représentés dans la première image. Un filtrage (340) peut être exécuté en utilisant un filtre morphologique. Une extension du masque peut être ajustée (360) par l'utilisateur. L'invention concerne en outre un support lisible par informatique utilisé pour la mise en oeuvre de ce procédé.
A two-dimensional scatter diagram is generated by plotting grey grades of pixels from a test image in contrast to grey grades of corresponding pixels from a reference image. A noise suppression filter is applied to the scatter diagram in order to define a mask form that can be deduced and completed to form a mask. Defect pixels are identified in the test image and corresponding pixel grey values are compared with the mask. |
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A two-dimensional scatter diagram is generated by plotting grey grades of pixels from a test image in contrast to grey grades of corresponding pixels from a reference image. A noise suppression filter is applied to the scatter diagram in order to define a mask form that can be deduced and completed to form a mask. Defect pixels are identified in the test image and corresponding pixel grey values are compared with the mask.</description><edition>7</edition><language>fre</language><subject>APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBEMICROSCOPY [SPM] ; BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; CALCULATING ; COMPUTING ; COUNTING ; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ; ELECTRICITY ; IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL ; INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES ; MEASURING ; MEASURING ANGLES ; MEASURING AREAS ; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS ; MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS ; PHYSICS ; SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS ; SEMICONDUCTOR DEVICES ; TESTING</subject><creationdate>2001</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20010330&DB=EPODOC&CC=FR&NR=2799027A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,309,781,886,25569,76552</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20010330&DB=EPODOC&CC=FR&NR=2799027A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>AGHAJAN HAMID K</creatorcontrib><title>PROCEDE DE DETECTION DE DEFAUTS ET MOYENS DE MEMOIRE POUR LA MISE EN OEUVRE DE CELUI-CI</title><description>La présente invention concerne un procédé de détection de défauts. Il comprend les étapes consistant à : (a) acquérir (310) une première image d'un objet à inspecter et une deuxième image associée; (b) aligner (320) la première image avec la deuxième image; (c) créer (330) un premier tracé en traçant les niveaux de gris des pixels provenant de la première image en fonction des niveaux de gris des pixels correspondants provenant de la deuxième image; (d) créer (340) un deuxième tracé en filtrant le premier tracé; (e) créer (350) un masque tel que le profil du masque est défini par la configuration du deuxième tracé; et (f) utiliser (380) le masque pour détecter des défauts représentés dans la première image. Un filtrage (340) peut être exécuté en utilisant un filtre morphologique. Une extension du masque peut être ajustée (360) par l'utilisateur. L'invention concerne en outre un support lisible par informatique utilisé pour la mise en oeuvre de ce procédé.
A two-dimensional scatter diagram is generated by plotting grey grades of pixels from a test image in contrast to grey grades of corresponding pixels from a reference image. A noise suppression filter is applied to the scatter diagram in order to define a mask form that can be deduced and completed to form a mask. Defect pixels are identified in the test image and corresponding pixel grey values are compared with the mask.</description><subject>APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBEMICROSCOPY [SPM]</subject><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</subject><subject>CALCULATING</subject><subject>COMPUTING</subject><subject>COUNTING</subject><subject>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</subject><subject>ELECTRICITY</subject><subject>IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL</subject><subject>INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES</subject><subject>MEASURING</subject><subject>MEASURING ANGLES</subject><subject>MEASURING AREAS</subject><subject>MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS</subject><subject>MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS</subject><subject>PHYSICS</subject><subject>SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS</subject><subject>SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><subject>TESTING</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2001</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZAgPCPJ3dnVxVQCjEFfnEE9_PwjHzTE0JFjBNUTB1z_S1S8YJOjr6uvvGeSqEOAfGqTg46jg6xnsquDqp-DvGhoWBDbD2dUn1FPX2ZOHgTUtMac4lRdKczMouLmGOHvophbkx6cWFyQmp-allsS7BRmZW1oaGJk7GhoToQQA8MEvvA</recordid><startdate>20010330</startdate><enddate>20010330</enddate><creator>AGHAJAN HAMID K</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20010330</creationdate><title>PROCEDE DE DETECTION DE DEFAUTS ET MOYENS DE MEMOIRE POUR LA MISE EN OEUVRE DE CELUI-CI</title><author>AGHAJAN HAMID K</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_FR2799027A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>fre</language><creationdate>2001</creationdate><topic>APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBEMICROSCOPY [SPM]</topic><topic>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</topic><topic>CALCULATING</topic><topic>COMPUTING</topic><topic>COUNTING</topic><topic>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</topic><topic>ELECTRICITY</topic><topic>IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL</topic><topic>INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES</topic><topic>MEASURING</topic><topic>MEASURING ANGLES</topic><topic>MEASURING AREAS</topic><topic>MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS</topic><topic>MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS</topic><topic>PHYSICS</topic><topic>SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS</topic><topic>SEMICONDUCTOR DEVICES</topic><topic>TESTING</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>AGHAJAN HAMID K</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>AGHAJAN HAMID K</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>PROCEDE DE DETECTION DE DEFAUTS ET MOYENS DE MEMOIRE POUR LA MISE EN OEUVRE DE CELUI-CI</title><date>2001-03-30</date><risdate>2001</risdate><abstract>La présente invention concerne un procédé de détection de défauts. Il comprend les étapes consistant à : (a) acquérir (310) une première image d'un objet à inspecter et une deuxième image associée; (b) aligner (320) la première image avec la deuxième image; (c) créer (330) un premier tracé en traçant les niveaux de gris des pixels provenant de la première image en fonction des niveaux de gris des pixels correspondants provenant de la deuxième image; (d) créer (340) un deuxième tracé en filtrant le premier tracé; (e) créer (350) un masque tel que le profil du masque est défini par la configuration du deuxième tracé; et (f) utiliser (380) le masque pour détecter des défauts représentés dans la première image. Un filtrage (340) peut être exécuté en utilisant un filtre morphologique. Une extension du masque peut être ajustée (360) par l'utilisateur. L'invention concerne en outre un support lisible par informatique utilisé pour la mise en oeuvre de ce procédé.
A two-dimensional scatter diagram is generated by plotting grey grades of pixels from a test image in contrast to grey grades of corresponding pixels from a reference image. A noise suppression filter is applied to the scatter diagram in order to define a mask form that can be deduced and completed to form a mask. Defect pixels are identified in the test image and corresponding pixel grey values are compared with the mask.</abstract><edition>7</edition><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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