Unidad óptica de proyección para microlitografía y método para producir un componente estructurado

La invención se refiere a una unidad óptica de proyección para microlitografía y a un método para producir un componente estructurado. Una unidad óptica de proyección para microlitografía comprende una pluralidad de espejos para guiar la luz de formación de imágenes (301, 510, 601, 701, 801) a lo largo de una trayectoria del haz de imágenes desde un campo de objeto (5) situado en un plano de objeto (OP) hasta un campo de imagen. (9) ubicado en un plano de imagen (IP) con una apertura numérica (NA) que tiene un valor mayor que 0,5, en donde la pluralidad de espejos comprende al menos tres espejos para incidencia rasante (espejos Gl), que desvían un rayo principal de un punto central del campo del objeto con un ángulo de incidencia de más de 45°, donde diferentes haces de luz polarizados que pasan por la unidad óptica de proyección (7, 300, 500, 600, 700, 800) en funcionamiento desde el campo del objeto al campo de imagen se giran en su dirección de polarización mediante diferentes ángulos de rotación debido a una rotación de polarización geométrica, en donde la unidad óptica de proyección comprende un primer grupo de espejos (A) y un segundo grupo de espejos (B), consistiendo dicho segundo grupo de espejos en los dos finales espejos (Mn-1,Mn) de dicha pluralidad de espejos en el lado de la imagen, en donde una porción lineal en la dependencia de la pupila de la rotación de polarización geométrica total (|Z3A + Z3B|) de la unidad óptica de proyección es menor que el 20% de una porción lineal en la dependencia de la pupila de la rotación de polarización geométrica (|Z3B|) del segundo grupo de espejos. (Traducción automática con Google Translate, sin valor legal) A projection optical unit for microlithography includes a plurality of mirrors and has a numerical aperture having a value larger than 0.5. The plurality of mirrors includes at least three grazing incidence mirrors, which deflect a chief ray of a central object field point with an angle of incidence of greater than 45°. Different polarized light beams passing the projection optical unit are rotated in their polarization direction by different angles of rotation. The projection optical unit includes first and second groups of mirrors. The second group of mirrors includes the final two mirrors of the plurality of mirrors at the image side. A linear portion in the pupil dependence of the total geometrical polarization rotation of the projection optical unit is less than 20% of a linear portion in the pup