Composiciones de limpieza
Una composición de limpieza que comprende: una base y un material inorgánico en partículas que tiene un d10 de al menos 10 μm, un d90 de no más de 450 μm y un d50 desde 25 μm a 350 μm, en la que el material inorgánico en partículas es perlita esférica, en la que la perlita esférica es perlita expand...
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Format: | Patent |
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