BONDING SUBSTRATE SURFACE DEFECT EVALUATION METHOD
The present invention provides a method for evaluating surface defects of a substrate to be bonded, including the steps of: preparing a mirror-polished silicon single crystal substrate; inspecting surface defects on the mirror-polished silicon single crystal substrate; depositing a polycrystalline s...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre ; ger |
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