PRODUCTION PLANT FOR PRODUCING INTEGRATED CIRCUITS FROM SEMICONDUCTOR WAFERS AND WAFFLE ELEMENT FOR A PRODUCTION PLANT

Die Fertigungsanlage dient zur Herstellung von integrierten Schaltkreisen auf Halbleiter-Wafern und hat wenigstens einen Strahlungserzeuger, der eine EUV-Strahlung erzeugt. Sie wird wenigstens einer Lithografie-Maschine zur Belichtung der Wafer zugeführt. Die Lithografie-Maschine ist in einem Fabrik...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	Blaschitz, Herbert, Eberle, Freyja, Köhler, Steffen, Schneider, Hartmut, Csátary, Peter
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre ; ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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