METHOD FOR CUTTING OBJECT TO BE PROCESSED

A silicon substrate 12 has a main face in a (100) plane, whereby a fracture 17 generated from a molten processed region 13 acting as a start point extends in a cleavage direction of the silicon substrate 12 (a direction orthogonal to the main face of the silicon substrate 12). Here, a rear face 1b o...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: KAWAGUCHI Daisuke, SHIMOI Hideki, UCHIYAMA Naoki
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; ger
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