Vertical PIN diodes and method of manufacturing them

The invention concerns a method of manufacturing a vertical PIN diode (30) comprising: providing an epitaxial wafer comprising a vertically stacked N-type layer (32), intrinsic layer (33) and P-type layer (34); forming an anode contact of the vertical PIN diode (30) by forming an anode metallization...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: PERONI, MARCO, PANTELLINI, ALESSIO
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; ger
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