CHARGE NEUTRALIZATION APPARATUS FOR ION IMPLANTATION SYSTEM

Procédé et appareil de neutralisation d'une pièce à usiner (14) telle qu'une tranche à semi-conducteur dans un système, selon lequel un faisceau d'ions positifs (12) est appliqué à la pièce à usiner (14). L'appareil comprend une source d'électrons (20) qui génère un faisceau...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	WILLIAMS, MALCOM, D, MCKENNA, CHARLES, M, LEUNG, KA-NGO, KUNKEL, WULF, B
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre ; ger
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SEMICONDUCTOR DEVICES SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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