Soluble polyarylene ether sulfones

Polyarylenethersulfone mit einer reduzierten Vikosität von 0,1 bis 2,0 dl/g, gemessen bei 25°C an einer 1 %igen Lösung in N-Methylpyrrolidon (NMP), die, bezogen auf die Gesamtmenge der im Polyarylenethersulfonharz vorhandenen Strukturelemente, 99-1 Mol-% eines wiederkehrenden Strukturelementes der Formel I und 1-99 Mol-% eines wiederkehrenden Strukturelementes der Formel II enthalten, worin im Strukturelement der Formel I die aromatischen Ringe unsubstituiert oder durch ein oder mehere C1-C4-Alkyle, C1-C4-Alkoxy oder Halogenatome substituiert sind, Ar1 einen unsubstituierten oder durch ein oder mehrere C1-C4-Alkyle, C1-C4-Alkoxy oder Halogene substituierten Rest der Formeln IIIa-IIIc wobei a für Null oder die Zahl 1 steht, oder bedeutet und Ar2 einen unsubstituierten oder durch ein oder mehrere C1-C4-Alkyle, C1-C4-Alkoxy oder Halogene substituierten Rest der Formeln IVa-IVe wobei b Null oder die Zahl 1 bedeutet, wobei c Null oder die Zahl 1 ist, lichen organischen Lösungsmitteln löslich und lassen sich aus der Lösung heraus zu Filmen verarbeiten oder in andere Matrixharze einbringen. Polyarylene ether sulfones which have a reduced viscosity of 0.1 to 2.0 dl/g, measured at 25 DEG C. in a 1% solution in N-methylpyrrolidone (NMP), and which contain, based on the total number of structural units present in the polyarylene ether sulfone resin, 99-1 mol % of a recurring structural unit of formula I (I) and 1-99 mol % of a recurring structural unit of formula II -O-Ar2-O-Ar1-(II) wherein the aromatic rings in the structural unit of formula I are unsubstituted or substituted by one or more C1-C4alkyl groups, C1-C4alkoxy groups or halogen atoms, Ar1 is a radical of formula IIIa-IIIc (IIIa) wherein a is 0 or 1, (IIIb) or (IIIc) which radical is unsubstituted or substituted by one or more C1-C4alkyl groups, C1-C4alkoxy groups or halogen atoms, and Ar2 is a radical of formula IVa-IVe (IVa) wherein b is 0 or 1 (IVb) (IVc) (IVd) wherein c is 0 or 1 (IVe) wherein Z is -CO-, -SO2-, -SO-, -S-, -O-, wherein R is methyl or phenyl, which radical is unsubstituted or substituted by one or more C1-C4alkyl groups, C1-C4alkoxy groups or halogen atoms, are soluble in customary organic solvents and can be processed from the solution to films or incorporated in other matrix resins.