GLASS REFLECTING AN INFRARED RADIATION AND METHOD FOR PRODUCING SAME

The invention relates to a layer system of a transparent substrate (100) reflecting an infrared radiation, comprising, arranged in this order: a first dialectic layer (D1) arranged on the transparent substrate (100), a second dialectic layer (D2) arranged on the first dialectic layer (D1), a first metal layer system (MS1) comprising, in this order: a first metal layer (M1), preferably made of or comprising Ag, a first blocking layer (B1), a dielectric barrier cover layer system (BDS), it is provided that the first dielectric layer (D1) is made of or comprises SiO, and the second dielectric layer (D2) is made of or comprises TiOor AlO, or the first dielectric layer (D1) is made of or comprises AlOand the second dielectric layer (D2) is made of or comprises TiO. In the method for producing an infrared reflective layer system on a provided transparent substrate (100) according to the invention, at least one of the applied individual layers is applied by sputtering a ceramic target or by reactive sputtering. В соответствующей изобретению отражающей инфракрасное излучение системе слоев прозрачной подложки (100), включающей расположенные в этой последовательности размещенный на прозрачной подложке (100) первый диэлектрический слой (D1); размещенный на первом диэлектрическом слое (D1) второй диэлектрический слой (D2); первую систему (MS1) металлического слоя, включающую в этой последовательности первый металлический слой (M1), предпочтительно состоящий из Ag или включающий его, первый блокирующий слой (B1), диэлектрическую систему (BDS) барьерного покровного слоя, предусматривается, что первый диэлектрический слой (D1) состоит из SiOили включает его и второй диэлектрический слой (D2) состоит из TiOили AlOили включает их или что первый диэлектрический слой (D1) состоит из AlOили включает его и второй диэлектрический слой (D2) состоит из TiOили включает его. В способе изготовления соответствующей изобретению отражающей инфракрасное излучение системы слоев на подготовленной прозрачной подложке (100) предусматривается, что по меньшей мере один из нанесенных отдельных слоев наносится распылением керамической мишени или реактивным распылением.