Verfahren zur Bewertung der dielektrischen Schicht nicht-flüchtiger EPROM, EEPROM und flash-EEPROM-Speicher
A method employing a test structure (10) identical to the memory array whose gate oxide quality is to be determined, except for the fact that the cells are connected electrically (13-15, 17, 18, 19-21) parallel to one another. The test structure is so stressed electrically as to extract electrons fr...
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Format: | Patent |
Sprache: | ger |
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