Verfahren zur Bewertung der dielektrischen Schicht nicht-flüchtiger EPROM, EEPROM und flash-EEPROM-Speicher

A method employing a test structure (10) identical to the memory array whose gate oxide quality is to be determined, except for the fact that the cells are connected electrically (13-15, 17, 18, 19-21) parallel to one another. The test structure is so stressed electrically as to extract electrons fr...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: RAVAZZI, LEONARDO, CAPPELLETTI, PAOLO GIUSEPPE
Format: Patent
Sprache:ger
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