MOS-Transistor, Halbeiterspeicherbauelement mit MOS-Transistoren und Herstellungsverfahren hierfür

A vertically structured transistor and method for manufacturing the same achieves a highly integrated semiconductor device. A pillar is vertically formed on a semiconductor substrate and forms a channel region of the transistor. A gate electrode is formed in a self-alignment fashion so as to surroun...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: PARK, KYUAN, SHIM, TAE-EARN, YU, SEON-IL
Format: Patent
Sprache:ger
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!