POSITIV ARBEITENDES STRAHLUNGSEMPFINDLICHES GEMISCH UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON RELIEFMUSTERN

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	SCHWALM, REINHOLD., 6706 WACHENHEIM, DE, FUNHOFF, DIRK., 6900 HEIDELBERG, DE, FUNHOFF, ANGELIKA., 6900 HEIDELBERG, DE, BINDER, HORST, 6840 LAMPERTHEIM, DE, ROSER, JOACHIM., 6800 MANNHEIM, DE
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BASIC ELECTRIC ELEMENTS CINEMATOGRAPHY ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS SEMICONDUCTOR DEVICES
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