Arrangement for cleaning semiconductor wafers has transport mechanism for wafers producing liquid film; further device feeds cleaning liquid to upper rollers in form of precipitation

The arrangement has a cleaning station (1) with several rotating sequentially arranged roller pairs (8,9) subjected to a cleaning liquid. Each roller pair has an upper and a lower roller. Wafers are transported between the roller pairs. A liquid film is produced by the transport mechanism (2) on which the wafers are transported and a further device feeds cleaning liquid to the upper rollers in the form of precipitation moving over the rollers. An Independent claim is also included for a method of cleaning semiconductor wafers. Gegenstand der Erfindung ist eine Vorrichtung zum Reinigen von Halbleiterscheiben mit einer Reinigungsflüssigkeit, umfassend eine Reinigungsstation mit mehreren rotierenden und hintereinander angeordneten, mit der Reinigungsflüssigkeit beaufschlagten Walzenpaaren, wobei jedes Walzenpaar von einer oberen und einer unteren Walze gebildet wird und ein Transport der Halbleiterscheibe zwischen den Walzenpaaren vorgesehen ist, und umfassend eine Transporteinrichtung zum An- und Abtransport der Halbleiterscheibe zur und von der Reinigungsstation. Die Vorrichtung ist gekennzeichnet durch einen von der Transporteinrichtung bereitgestellten Flüssigkeitsfilm, auf dem die Halbleiterscheibe transportiert wird, und durch eine Einrichtung zum Zuführen der Reinigungsflüssigkeit auf die oberen Walzen in Form eines über die oberen Walzen wandernden Niederschlags. Gegenstand der Erfindung ist weiterhin ein Verfahren zum Reinigen von Halbleiterscheiben, bei dem eine solche Vorrichtung zur Anwendung kommt.