VERFAHREN UND SYSTEM ZUM POSITIONIEREN DES MITTELPUNKTS DER V-TYP-KERBE EINES WAFERS, UND COMPUTERSPEICHERMEDIUM

Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung offenbaren ein Verfahren und ein System zum Positionieren eines Mittelpunktes einer V-Typ-Kerbe eines Wafers und ein Computerspeichermedium. Das Verfahren umfasst: Bestimmen, basierend auf gesammelten Randdaten der V-Typ-Kerbe des Wafers, eines Mittelpunkts eines konzentrischen Kreises, der den Rändern der V-Typ-Kerbe entspricht; Beurteilen, basierend auf einer Positionsbeziehung zwischen dem Mittelpunkt und einer eingestellten Referenzskalenlinie, ob sich die V-Typ-Kerbe an einer vorgegebenen Zielposition im Mittelpunkt befindet; Bestimmen, basierend auf der Positionsbeziehung zwischen dem Mittelpunkt und der eingestellten Referenzskalenlinie, einer Drehrichtung und eines Drehwinkels des Wafers W, wenn sich die V-Typ-Kerbe nicht in der vorgegebenen Zielposition befindet; Betreiben, entsprechend der Drehrichtung und des Drehwinkels des Wafers, des Wafers zum Drehen, bis die V-Typ-Kerbe in die vorgegebene Zielposition im Mittelpunkt gedreht ist. A method is for positioning a center of a V-type notch of a wafer. The method includes: determining, based on collected edge data of a V-type notch of a wafer, a center of a concentric circle corresponding to edges of the V-type notch; and judging, based on a position relation between the center and a set reference scale line, whether the V-type notch is at a preset target center position. The method also includes determining, based on the position relation between the center and the set reference scale line, a rotation direction and rotation angle of the wafer when the V-type notch is out of the preset target center position; and driving, according to the rotation direction and rotation angle of the wafer, the wafer to rotate until the V-type notch is rotated to the preset target center position.