Opakes Quarzglas und Verfahren für seine Herstellung
Zu lösende Probleme: Ein opakes Quarzglas mit ausgezeichneter Wärmeisolationseigenschaft, mechanischer Festigkeit und Oberflächenglattheit zu schaffen. Lösung: Eine Siliziumdioxidpulver-Wasser-Aufschlämmung mit einer Konzentration von 45 bis 75 Gew.-% wird Nasspulverisierung mit Siliziumnitridkügelc...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | Zu lösende Probleme: Ein opakes Quarzglas mit ausgezeichneter Wärmeisolationseigenschaft, mechanischer Festigkeit und Oberflächenglattheit zu schaffen. Lösung: Eine Siliziumdioxidpulver-Wasser-Aufschlämmung mit einer Konzentration von 45 bis 75 Gew.-% wird Nasspulverisierung mit Siliziumnitridkügelchen mit einem mittleren Durchmesser von 0,1 mm bis 3 mm unterzogen. Das Siliziumdioxidpulver und die Siliziumnitridkügelchen werden Abrieb unterzogen und das Siliziumnitridpulver arbeitet als Schäummittel und unabhängige kugelförmige Blasen werden zur Herstellung von opakem Quarzglas gebildet, das Luftzellen mit einem mittleren Durchmesser von 2 bis 30 µm aufweist, und die unabhängig kugelförmig sind, mit einer Dichte von 1,90 bis 2,20 g/cm3, einer Weißheit von 80 oder mehr, einem Reflexionsvermögen von 80 % oder mehr für Licht einer Wellenlänge von 0,2 bis 3 µm bei einer Dicke von 3 mm, einer Biegefestigkeit von 70 MPa oder mehr, einer Oberflächenrauheit Ra der gebrannten Oberfläche von 0,7 µm oder weniger, und das eine ausgezeichnete Wärmestrahlungsisolationseigenschaft, mechanische Festigkeit und Oberflächenglattheit aufweist.
To provide an opaque quartz glass having excellent heat insulating property, mechanical strength and surface smoothness, a silica powder water slurry of concentration of 45 to 75 wt % is subjected to wet pulverization with silicon nitride beads having a mean diameter of 0.1 mm to 3 mm. The silica powder and silicon nitride beads are subjected to abrasion and the silicon nitride powder works as foaming agent and independent spherical bubbles are formed for manufacturing opaque quartz glass which has air cells having a mean diameter of 2 to 30 μm and are independent spherical, having a density of 1.90 to 2.20 g/cm3, a whiteness of 80 or more, a reflectance of 80% or more for light of a wavelength of 0.2 to 3 μm at thickness of 3 mm, a bending strength of 70 MPa or more, a surface roughness Ra of the baked surface of 0.7 μm or less. |
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