Halbleitervorrichtung und Verfahren zum Herstellen einer Halbleitervorrichtung

Verfahren zum Herstellen einer Halbleitervorrichtung, enthaltend:Bestrahlen (S16) eines Halbleitersubstrats (1) eines ersten Leitfähigkeitstyps mit Protonen von einer Rückseite des Halbleitersubstrats (1) her unter Verwendung einer ersten vordefinierten Tiefe als Bereich, wodurch eine erste Halbleit...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	Yoshida, Souichi, Mukai, Kouji
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY SEMICONDUCTOR DEVICES
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