Behälter aus pyrolytischem Bornitrid zum Wachsen eines Kristalls, und Verwendung des Behälters

Behälter aus pyrolytischem Bornitrid für ein Kristallwachstumsverfahren, bei dem sich eine Schmelze aus Rohmaterial, die sich in einem länglichen Behälter befindet, von einem Behälterboden in Richtung einer Behälteröffnung verfestigt, wobei der Behälter aus pyrolytischem Bornitrid umfasst: ein Teils...

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Hauptverfasser: Kaneko, Shuuichi, Kawase, Tomohiro, Fujii, Syunsuke, Hagi, Yoshiaki, Takayama, Hidetoshi
Format: Patent
Sprache:ger
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creator Kaneko, Shuuichi
Kawase, Tomohiro
Fujii, Syunsuke
Hagi, Yoshiaki
Takayama, Hidetoshi
description Behälter aus pyrolytischem Bornitrid für ein Kristallwachstumsverfahren, bei dem sich eine Schmelze aus Rohmaterial, die sich in einem länglichen Behälter befindet, von einem Behälterboden in Richtung einer Behälteröffnung verfestigt, wobei der Behälter aus pyrolytischem Bornitrid umfasst: ein Teilstück mit konstantem Durchmesser, dessen Querschnittsfläche im Wesentlichen konstant ist; einen Stufenabschnitt, der an einer vorbestimmten Position beabstandet von der Öffnung vorgesehen ist, und an dem sich ein Innendurchmesser oder ein Außendurchmesser des Behälters ändert, wobei, wenn ein Durchmesser eines perfekten Kreises, der die gleiche Fläche wie eine Innenquerschnittsfläche des Teilstücks mit konstantem Durchmesser aufweist, D ist, und ein Abstand von der Öffnung zu einem oberen Ende des Stufenabschnitts x ist, die Relationen D ≥ 54 mm und x ≥ 5 mm erfüllt sind, ... Disclosed is a pyrolytic boron nitride vessel which can maintain a complete round cross-sectional shape even if the diameter is large, and which exhibits little deformation, even after multiple use. The pyrolytic boron nitride vessel is used in a semiconductor crystal growth method in which a raw material melt held in the vertical vessel is solidified from the bottom towards the vessel opening. The pyrolytic boron nitride vessel is characterised by having a fixed diameter section with a practically uniform cross-sectional area, and by being provided with a step section at a predetermined position from the vessel opening where the inner diameter or outer diameter is changed and where D=54mm and x=5mm when D is the diameter of a complete round having the same area as the cross-sectional area inside the fixed diameter section and x is the distance from the vessel opening to the top edge of the step section. Preferably, 5mm=x=L/3 or 5mm=x=D when L is the length from the bottom edge of the fixed diameter section to the vessel opening.
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Disclosed is a pyrolytic boron nitride vessel which can maintain a complete round cross-sectional shape even if the diameter is large, and which exhibits little deformation, even after multiple use. The pyrolytic boron nitride vessel is used in a semiconductor crystal growth method in which a raw material melt held in the vertical vessel is solidified from the bottom towards the vessel opening. The pyrolytic boron nitride vessel is characterised by having a fixed diameter section with a practically uniform cross-sectional area, and by being provided with a step section at a predetermined position from the vessel opening where the inner diameter or outer diameter is changed and where D=54mm and x=5mm when D is the diameter of a complete round having the same area as the cross-sectional area inside the fixed diameter section and x is the distance from the vessel opening to the top edge of the step section. 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Disclosed is a pyrolytic boron nitride vessel which can maintain a complete round cross-sectional shape even if the diameter is large, and which exhibits little deformation, even after multiple use. The pyrolytic boron nitride vessel is used in a semiconductor crystal growth method in which a raw material melt held in the vertical vessel is solidified from the bottom towards the vessel opening. The pyrolytic boron nitride vessel is characterised by having a fixed diameter section with a practically uniform cross-sectional area, and by being provided with a step section at a predetermined position from the vessel opening where the inner diameter or outer diameter is changed and where D=54mm and x=5mm when D is the diameter of a complete round having the same area as the cross-sectional area inside the fixed diameter section and x is the distance from the vessel opening to the top edge of the step section. 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