Plasmaverarbeitungsvorrichtung

Plasmaverarbeitungsvorrichtung, umfassend: eine Kammer (2), in die ein Prozessgas eingeführt wird, und in der Plasma, das das Prozessgas beinhaltet, erzeugt wird; ein Basiselement (3), das eine erste Basisseite (33), auf der ein Substrat (10) zu befestigen ist, eine zweite Basisseite (33a), die an e...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	WAKAMATSU, SADATSUGU, ETO, KENJI, JIMBO, YOSUKE, KAMESAKI, KOJI, UCHIDA, HIROTO, ASARI, SHIN, KIKUCHI, MASASHI
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SEMICONDUCTOR DEVICES SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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