Verfahren, System und Kalibrationswafer zum Kalibrieren von Temperaturmeßvorrichtungen in Wärmebehandlungskammern

Verfahren zum Kalibrieren einer Temperaturmeßvorrichtung (27), umfassend: Abstrahlen von Lichtenergie von einer Kalibrierungslichtquelle (23) auf einen Wafer (14), welcher aus einem Halbleitermaterial hergestellt ist, während der Wafer (14) erwärmt wird; Erfassen der abgestrahlten Menge der Lichtenergie, welche durch den Wafer (14) durchgelassen wird; Bestimmen der Temperatur des Wafers (14) auf Basis der Menge der durchgelassenen Lichtenergie, welche erfaßt wird; und Kalibrieren der Temperaturmeßvorrichtung (27), welche die Temperatur des Wafers (14) auf Basis der Temperatur misst, welche anhand der Menge der Lichtenergie, welche durch den Wafer (14) durchgelassen wird, bestimmt wird. A method and system for calibrating temperature measurement devices, such as pyrometers, in thermal processing chambers are disclosed. According to the present invention, the system includes a calibrating light source that emits light energy onto a substrate contained in the thermal processing chamber. A light detector then detects the amount of light that is being transmitted through the substrate. The amount of detected light energy is then used to calibrate a temperature measurement device that is used in the system.