Beschichtungsanlage und Verfahren zur Beschichtung eines Teilbereichs eines Paneels

Beschichtungsanlage und Verfahren zur Beschichtung eines Teilbereichs eines Paneels

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Beschichtungsanlage (1) und ein Verfahren zur Beschichtung eines Teilbereichs (3), insbesondere einer Fase, eines Paneels (5),-wobei die Beschichtungsanlage (1) ein Medienleitungssystem (7) und ein Pumpsystem (9) zum Führen und Fördern eines Beschichtungsmediu...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Gros, Matthias, Schiele, Stefan
Format: Patent
Sprache:ger
Schlagworte:
APPARATUS FOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TOSURFACES, IN GENERAL
APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
PERFORMING OPERATIONS
SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL
TRANSPORTING
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creator Gros, Matthias
Schiele, Stefan
description Die vorliegende Erfindung betrifft eine Beschichtungsanlage (1) und ein Verfahren zur Beschichtung eines Teilbereichs (3), insbesondere einer Fase, eines Paneels (5),-wobei die Beschichtungsanlage (1) ein Medienleitungssystem (7) und ein Pumpsystem (9) zum Führen und Fördern eines Beschichtungsmediums aufweist,-wobei das Medienleitungssystem (7) eine Beschichtungsvorrichtung (11) umfasst, die--einen Zulauf (13),--eine Medienleitung (15),--eine Beschichtungsöffnung (17) zum Einbringen des Paneels (5) in einen Beschichtungsmedienstrom, und--einen Ablauf (19) aufweist,-wobei die Medienleitung (15) und die Beschichtungsöffnung (17) derart ausgebildet sind, dass durch einen Sog in eine Medienförderrichtung (F) das Beschichtungsmedium auf den Teilbereich (3) des Paneels (5) aufbringbar ist,-wobei das Pumpsystem (9) eine stromabwärts des Ablaufs (19) angeordnete Unterdruckvorrichtung (21) zur Erzeugung des Sogs aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtungsvorrichtung (11) stromabwärts des Zulaufs (13) eine in einer Wandung (23) der Medienleitung (15) ausgebildete Lufteinsaugöffnung (25) zur Beimischung von Luft zum Beschichtungsmedium aufweist.
format Patent
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source esp@cenet
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