Beschichtungseinrichtung mit variablem Gasaustrittsquerschnitt
Vorrichtung (1) zum Beschichten von Behältnissen (10) mit wenigstens einer Beschichtungsstation (4), wobei die Beschichtungsstation wenigstens eine erste Elektrode (14) und eine zweite Elektrode (16) aufweist, sowie wenigstens eine Vakuumkammer (12), innerhalb derer zumindest ein Teil des zu beschic...
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| creator | Handschuh, Eduard |
| description | Vorrichtung (1) zum Beschichten von Behältnissen (10) mit wenigstens einer Beschichtungsstation (4), wobei die Beschichtungsstation wenigstens eine erste Elektrode (14) und eine zweite Elektrode (16) aufweist, sowie wenigstens eine Vakuumkammer (12), innerhalb derer zumindest ein Teil des zu beschichtenden Behältnisses (10) angeordnet ist, sowie eine Vakuumerzeugungseinrichtung (8), welche in dieser Vakuumkammer das Vakuum erzeugt, sowie wenigstens eine Beschichtungseinrichtung (2), die in ein Behältnis (10) einführbar ist und mittels derer dem Behältnis (10) ein insbesondere gasförmiges Medium zuführbar ist, wobei die Beschichtungseinrichtung (2) wenigstens eine Austrittsöffnung (20) aufweist, durch die das Medium dem Behältnis (10) zuführbar ist, wobei wenigstens ein Querschnitt (Q) wenigstens einer Austrittsöffnung (20) veränderbar ist. |
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und eine zweite Elektrode (16) aufweist, sowie wenigstens eine Vakuumkammer (12), innerhalb derer zumindest ein Teil des zu beschichtenden Behältnisses (10) angeordnet ist, sowie eine Vakuumerzeugungseinrichtung (8), welche in dieser Vakuumkammer das Vakuum erzeugt, sowie wenigstens eine Beschichtungseinrichtung (2), die in ein Behältnis (10) einführbar ist und mittels derer dem Behältnis (10) ein insbesondere gasförmiges Medium zuführbar ist, wobei die Beschichtungseinrichtung (2) wenigstens eine Austrittsöffnung (20) aufweist, durch die das Medium dem Behältnis (10) zuführbar ist, wobei wenigstens ein Querschnitt (Q) wenigstens einer Austrittsöffnung (20) veränderbar ist.</description><language>ger</language><subject>CHEMICAL SURFACE TREATMENT ; CHEMISTRY ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; 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Beschichtungsstation (4), wobei die Beschichtungsstation wenigstens eine erste Elektrode (14) und eine zweite Elektrode (16) aufweist, sowie wenigstens eine Vakuumkammer (12), innerhalb derer zumindest ein Teil des zu beschichtenden Behältnisses (10) angeordnet ist, sowie eine Vakuumerzeugungseinrichtung (8), welche in dieser Vakuumkammer das Vakuum erzeugt, sowie wenigstens eine Beschichtungseinrichtung (2), die in ein Behältnis (10) einführbar ist und mittels derer dem Behältnis (10) ein insbesondere gasförmiges Medium zuführbar ist, wobei die Beschichtungseinrichtung (2) wenigstens eine Austrittsöffnung (20) aufweist, durch die das Medium dem Behältnis (10) zuführbar ist, wobei wenigstens ein Querschnitt (Q) wenigstens einer Austrittsöffnung (20) veränderbar ist.</description><subject>CHEMICAL SURFACE TREATMENT</subject><subject>CHEMISTRY</subject><subject>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN 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