Verfahren zum Betreiben eines Regelungssystems zum Regeln der Position eines Elementes
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Betreiben eines Regelungssystems zum Regeln der Position eines Elementes, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, wobei das Regelungssystem einen Regler (30) zum Regeln einer auf das Element ausgeübten Kraft (F) aufweist, und...
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| Format: | Patent |
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| creator | Wittmann, Robert Treubel, Frank |
| description | Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Betreiben eines Regelungssystems zum Regeln der Position eines Elementes, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, wobei das Regelungssystem einen Regler (30) zum Regeln einer auf das Element ausgeübten Kraft (F) aufweist, und wobei der Regler (30) eine Regelungseinheit (31) zur Erzeugung eines Regelungssignals und einen Notch-Filter (32) zur Nachbehandlung dieses Regelungssignals aufweist. Ein erfindungsgemäßes Verfahren weist folgende Schritte auf: Ermitteln einer Frequenzantwort des Elements für ein vorgegebenes Störsignal; Identifizieren wenigstens eines Peaks innerhalb eines dieser Frequenzantwort entsprechenden Frequenzspektrums, für welchen eine unerlaubte Verstärkung von Störungen oder ein instabiles Verhalten des Regelungssystems zu erwarten ist; Bestimmen, für diesen wenigstens einen Peak, jeweils eines Wertes für die Peakfrequenz (ωn), für die Peakhöhe (h) und für die Peakbreite (Δf); und automatisches Parametrisieren des Notch-Filters (32) durch Festlegen jeweils eines Wertes für die Dämpfungsparameter (dp, dz) des Notch-Filters (32) basierend auf den bestimmten Werten. |
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Ein erfindungsgemäßes Verfahren weist folgende Schritte auf: Ermitteln einer Frequenzantwort des Elements für ein vorgegebenes Störsignal; Identifizieren wenigstens eines Peaks innerhalb eines dieser Frequenzantwort entsprechenden Frequenzspektrums, für welchen eine unerlaubte Verstärkung von Störungen oder ein instabiles Verhalten des Regelungssystems zu erwarten ist; Bestimmen, für diesen wenigstens einen Peak, jeweils eines Wertes für die Peakfrequenz (ωn), für die Peakhöhe (h) und für die Peakbreite (Δf); und automatisches Parametrisieren des Notch-Filters (32) durch Festlegen jeweils eines Wertes für die Dämpfungsparameter (dp, dz) des Notch-Filters (32) basierend auf den bestimmten Werten.</description><language>ger</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CINEMATOGRAPHY ; CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL ; CONTROLLING ; ELECTROGRAPHY ; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS ; HOLOGRAPHY ; MATERIALS THEREFOR ; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS ORELEMENTS ; ORIGINALS THEREFOR ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS ; REGULATING ; SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES</subject><creationdate>2021</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20210527&DB=EPODOC&CC=DE&NR=102020212718A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25542,76516</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20210527&DB=EPODOC&CC=DE&NR=102020212718A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>Wittmann, Robert</creatorcontrib><creatorcontrib>Treubel, Frank</creatorcontrib><title>Verfahren zum Betreiben eines Regelungssystems zum Regeln der Position eines Elementes</title><description>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Betreiben eines Regelungssystems zum Regeln der Position eines Elementes, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, wobei das Regelungssystem einen Regler (30) zum Regeln einer auf das Element ausgeübten Kraft (F) aufweist, und wobei der Regler (30) eine Regelungseinheit (31) zur Erzeugung eines Regelungssignals und einen Notch-Filter (32) zur Nachbehandlung dieses Regelungssignals aufweist. Ein erfindungsgemäßes Verfahren weist folgende Schritte auf: Ermitteln einer Frequenzantwort des Elements für ein vorgegebenes Störsignal; Identifizieren wenigstens eines Peaks innerhalb eines dieser Frequenzantwort entsprechenden Frequenzspektrums, für welchen eine unerlaubte Verstärkung von Störungen oder ein instabiles Verhalten des Regelungssystems zu erwarten ist; Bestimmen, für diesen wenigstens einen Peak, jeweils eines Wertes für die Peakfrequenz (ωn), für die Peakhöhe (h) und für die Peakbreite (Δf); und automatisches Parametrisieren des Notch-Filters (32) durch Festlegen jeweils eines Wertes für die Dämpfungsparameter (dp, dz) des Notch-Filters (32) basierend auf den bestimmten Werten.</description><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</subject><subject>CINEMATOGRAPHY</subject><subject>CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL</subject><subject>CONTROLLING</subject><subject>ELECTROGRAPHY</subject><subject>FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS</subject><subject>HOLOGRAPHY</subject><subject>MATERIALS THEREFOR</subject><subject>MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS ORELEMENTS</subject><subject>ORIGINALS THEREFOR</subject><subject>PHOTOGRAPHY</subject><subject>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</subject><subject>PHYSICS</subject><subject>REGULATING</subject><subject>SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2021</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZAgLSy1KS8woSs1TqCrNVXBKLSlKzUwC8lIz81KLFYJS01NzSvPSi4sri0tSc4vBisCCeQopqUUKAfnFmSWZ-TDlrjmpual5JanFPAysaYk5xam8UJqbQdXNNcTZQze1ID8-tbggMTk1L7Uk3sXV0MAIBA2NzA0tHA2NiVUHAA3VO08</recordid><startdate>20210527</startdate><enddate>20210527</enddate><creator>Wittmann, Robert</creator><creator>Treubel, Frank</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20210527</creationdate><title>Verfahren zum Betreiben eines Regelungssystems zum Regeln der Position eines Elementes</title><author>Wittmann, Robert ; Treubel, Frank</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_DE102020212718A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>ger</language><creationdate>2021</creationdate><topic>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</topic><topic>CINEMATOGRAPHY</topic><topic>CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL</topic><topic>CONTROLLING</topic><topic>ELECTROGRAPHY</topic><topic>FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS</topic><topic>HOLOGRAPHY</topic><topic>MATERIALS THEREFOR</topic><topic>MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS ORELEMENTS</topic><topic>ORIGINALS THEREFOR</topic><topic>PHOTOGRAPHY</topic><topic>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</topic><topic>PHYSICS</topic><topic>REGULATING</topic><topic>SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>Wittmann, Robert</creatorcontrib><creatorcontrib>Treubel, Frank</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>Wittmann, Robert</au><au>Treubel, Frank</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>Verfahren zum Betreiben eines Regelungssystems zum Regeln der Position eines Elementes</title><date>2021-05-27</date><risdate>2021</risdate><abstract>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Betreiben eines Regelungssystems zum Regeln der Position eines Elementes, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, wobei das Regelungssystem einen Regler (30) zum Regeln einer auf das Element ausgeübten Kraft (F) aufweist, und wobei der Regler (30) eine Regelungseinheit (31) zur Erzeugung eines Regelungssignals und einen Notch-Filter (32) zur Nachbehandlung dieses Regelungssignals aufweist. 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