Beschichtung für ein optoelektronisches Bauelement, Verfahren zur Herstellung einer solchen Beschichtung, optoelektronisches Bauelement mit einer solchen Beschichtung

Die Erfindung betrifft eine Beschichtung (10) zur Planarisierung und Stabilisierung einer laserstrukturierten Oberfläche (11) eines optoelektronischen Bauelements (100), wobei das optoelektronische Bauelement (100) ein Schichtsystem (7) aufweist, wobei das Schichtsystem (7) eine erste Elektrode (2),...

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Hauptverfasser: Bewersdorff-Sarlette, Ulrike, Weiß, Andre
Format: Patent
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creator Bewersdorff-Sarlette, Ulrike
Weiß, Andre
description Die Erfindung betrifft eine Beschichtung (10) zur Planarisierung und Stabilisierung einer laserstrukturierten Oberfläche (11) eines optoelektronischen Bauelements (100), wobei das optoelektronische Bauelement (100) ein Schichtsystem (7) aufweist, wobei das Schichtsystem (7) eine erste Elektrode (2), eine zweite Elektrode (6), und mindestens eine photoaktive Schicht (4) umfasst, wobei die mindestens eine photoaktive Schicht (4) zumindest teilweise zwischen den Elektroden (2,6) angeordnet ist, und wobei das Schichtsystem (7) laserstruktriert ist. Die Beschichtung (10) weist eine Polythiolen-Matrix auf, wobei die Polythiolen-Matrix mittels Polymerisation aus mindestens einem ersten Monomer und einem zweiten Monomer gebildet ist, wobei das erste Monomer ein polyfunktionales Thiol mit mindestens drei Thiol-Gruppen ist und das zweite Monomer ein polyfunktionales Alken mit mindestens zwei C-C-Doppelbindungen ist, und wobei die Beschichtung (10) auf dem optoelektronischen Bauelement (100) angeordnet ist und zumindest teilweise direkten Kontakt mit dem Schichtsystem (7) und/oder einen Diffusionskontakt mit dem Schichtsystem (7) für mindestens das erste Monomer und/oder das zweite Monomer aufweist. A coating for planarization and stabilization of a laser-structured surface of an optoelectronic component, the optoelectronic component having a layer system including a first electrode, a second electrode, and at least one photoactive layer, wherein the at least one photoactive layer is disposed at least partly between the electrodes, and wherein the layer system is laser-structured, the coating including a polythiolene matrix, wherein the polythiolene matrix is formed by polymerization from at least one first monomer and one second monomer, wherein the first monomer is a polyfunctional thiol having at least three thiol groups, the second monomer is a polyfunctional alkene having at least two C-C double bonds, and the coating is disposed on the optoelectronic component and has at least partial direct contact with the layer system and/or diffusion contact with the layer system for at least the first monomer and/or the second monomer.
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Die Beschichtung (10) weist eine Polythiolen-Matrix auf, wobei die Polythiolen-Matrix mittels Polymerisation aus mindestens einem ersten Monomer und einem zweiten Monomer gebildet ist, wobei das erste Monomer ein polyfunktionales Thiol mit mindestens drei Thiol-Gruppen ist und das zweite Monomer ein polyfunktionales Alken mit mindestens zwei C-C-Doppelbindungen ist, und wobei die Beschichtung (10) auf dem optoelektronischen Bauelement (100) angeordnet ist und zumindest teilweise direkten Kontakt mit dem Schichtsystem (7) und/oder einen Diffusionskontakt mit dem Schichtsystem (7) für mindestens das erste Monomer und/oder das zweite Monomer aufweist. A coating for planarization and stabilization of a laser-structured surface of an optoelectronic component, the optoelectronic component having a layer system including a first electrode, a second electrode, and at least one photoactive layer, wherein the at least one photoactive layer is disposed at least partly between the electrodes, and wherein the layer system is laser-structured, the coating including a polythiolene matrix, wherein the polythiolene matrix is formed by polymerization from at least one first monomer and one second monomer, wherein the first monomer is a polyfunctional thiol having at least three thiol groups, the second monomer is a polyfunctional alkene having at least two C-C double bonds, and the coating is disposed on the optoelectronic component and has at least partial direct contact with the layer system and/or diffusion contact with the layer system for at least the first monomer and/or the second monomer.</description><language>ger</language><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ; ELECTRICITY ; SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><creationdate>2021</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20210617&amp;DB=EPODOC&amp;CC=DE&amp;NR=102020123252A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76547</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20210617&amp;DB=EPODOC&amp;CC=DE&amp;NR=102020123252A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>Bewersdorff-Sarlette, Ulrike</creatorcontrib><creatorcontrib>Weiß, Andre</creatorcontrib><title>Beschichtung für ein optoelektronisches Bauelement, Verfahren zur Herstellung einer solchen Beschichtung, optoelektronisches Bauelement mit einer solchen Beschichtung</title><description>Die Erfindung betrifft eine Beschichtung (10) zur Planarisierung und Stabilisierung einer laserstrukturierten Oberfläche (11) eines optoelektronischen Bauelements (100), wobei das optoelektronische Bauelement (100) ein Schichtsystem (7) aufweist, wobei das Schichtsystem (7) eine erste Elektrode (2), eine zweite Elektrode (6), und mindestens eine photoaktive Schicht (4) umfasst, wobei die mindestens eine photoaktive Schicht (4) zumindest teilweise zwischen den Elektroden (2,6) angeordnet ist, und wobei das Schichtsystem (7) laserstruktriert ist. 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Die Beschichtung (10) weist eine Polythiolen-Matrix auf, wobei die Polythiolen-Matrix mittels Polymerisation aus mindestens einem ersten Monomer und einem zweiten Monomer gebildet ist, wobei das erste Monomer ein polyfunktionales Thiol mit mindestens drei Thiol-Gruppen ist und das zweite Monomer ein polyfunktionales Alken mit mindestens zwei C-C-Doppelbindungen ist, und wobei die Beschichtung (10) auf dem optoelektronischen Bauelement (100) angeordnet ist und zumindest teilweise direkten Kontakt mit dem Schichtsystem (7) und/oder einen Diffusionskontakt mit dem Schichtsystem (7) für mindestens das erste Monomer und/oder das zweite Monomer aufweist. 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