Verfahren zum Beschichten dreidimensionaler Substrate mit photostrukturierbaren Resisten

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Beschichten von dreidimensionalen Substraten, insbesondere zum Aufbringen einer photostrukturierbaren Resistschicht auf eine zu belackende Oberfläche eines Substrates mit einer dreidimensionalen Struktur bzw. einer Oberfläche mit einer dreidimensionalen Topog...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	Heimburger, Robert, Schondelmaier, Daniel, Saupe, Jens
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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