Dosiervorrichtung zum Dosieren eines pulverförmigen Stoffes

Dosiervorrichtung zum Dosieren eines pulverförmigen Stoffes, insbesondere eines Precursors zum Zuführen desselben in einen CVD-Reaktor (2) einer CVD-Anlage (1) zum Abscheiden etwa einer metallischen Schicht auf einem Substrat, umfassend einen Vorratsbehälter (6) zum Bevorraten des pulverförmigen Sto...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Mumme, Frank
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOIDCHEMISTRY CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING, DISPERSING PERFORMING OPERATIONS PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION THEIR RELEVANT APPARATUS TRANSPORTING
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