Verfahren zur Herstellung eines elektrisch leitfähigen Substrats und einer Anzeigevorrichtung
Verfahren zur Herstellung eines elektrisch leitfähigen Substrats (1, 1A, 1B), das ein Basismaterial (2) und eine elektrisch leitfähige Musterschicht (8) auf einer Hauptseite (2a) des Basismaterials (2) aufweist, wobei das Verfahren aufweist:einen Schritt des Ausbildens eines Grabens (6) mit einer Bo...
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| creator | Taniguchi, Susumu Horikawa, Yuhei Abe, Hisayuki Seki, Akiko Daitoku, Takashi Sato, Atsushi Orikasa, Makoto |
| description | Verfahren zur Herstellung eines elektrisch leitfähigen Substrats (1, 1A, 1B), das ein Basismaterial (2) und eine elektrisch leitfähige Musterschicht (8) auf einer Hauptseite (2a) des Basismaterials (2) aufweist, wobei das Verfahren aufweist:einen Schritt des Ausbildens eines Grabens (6) mit einer Bodenfläche (6a), an der eine Grundschicht (3) freiliegt,und einer Seitenfläche (6b, 6c), welche eine Oberfläche (4a) einer Grabenbildungsschicht (4) enthält, mittels eines Prägeverfahrens, in welchem eine Matrize (7),welche ein konvexes Teil (7a) aufweist, in die Grabenbildungsschicht (4) gedrückt wird, welche auf der Grundschicht (3) angeordnet ist, welche wiederum auf dem Basismaterial (2) angeordnet ist, wobei die Grundschicht (3) einen Katalysator enthält;einen Schritt des Ausbildens der elektrisch leitfähigen Musterschicht (8), der Metallplattieren und Füllen des Grabens (6) umfasst, indem von der auf der Bodenfläche (6a) des Grabens (6) freiliegenden Grundschicht (3) aus eine Metallplattierung aufgewachsen wird; undeinen Schritt des Schwärzens der Oberfläche (8a) der elektrisch leitfähigen Musterschicht (8), wobei die Oberfläche (8a) eine Fläche beinhaltet, die der Bodenfläche (6a) des Grabens (6) gegenüberliegt.
A method of producing an electroconductive substrate including a base material, and an electroconductive pattern disposed on one main surface side of the base material includes: a step of forming a trench including a bottom surface to which a foundation layer is exposed, and a lateral surface which includes a surface of a trench formation layer, according to an imprint method; and a step of forming an electroconductive pattern layer by growing metal plating from the foundation layer which is exposed to the bottom surface of the trench. |
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A method of producing an electroconductive substrate including a base material, and an electroconductive pattern disposed on one main surface side of the base material includes: a step of forming a trench including a bottom surface to which a foundation layer is exposed, and a lateral surface which includes a surface of a trench formation layer, according to an imprint method; and a step of forming an electroconductive pattern layer by growing metal plating from the foundation layer which is exposed to the bottom surface of the trench.</description><language>ger</language><subject>CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS ; CHEMICAL SURFACE TREATMENT ; CHEMISTRY ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL ; COATING METALLIC MATERIAL ; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ; ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ; ELECTRICITY ; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL ; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS ; METALLURGY ; PRINTED CIRCUITS ; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</subject><creationdate>2024</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20240418&DB=EPODOC&CC=DE&NR=102018118116B4$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76419</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20240418&DB=EPODOC&CC=DE&NR=102018118116B4$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>Taniguchi, Susumu</creatorcontrib><creatorcontrib>Horikawa, Yuhei</creatorcontrib><creatorcontrib>Abe, Hisayuki</creatorcontrib><creatorcontrib>Seki, Akiko</creatorcontrib><creatorcontrib>Daitoku, Takashi</creatorcontrib><creatorcontrib>Sato, Atsushi</creatorcontrib><creatorcontrib>Orikasa, Makoto</creatorcontrib><title>Verfahren zur Herstellung eines elektrisch leitfähigen Substrats und einer Anzeigevorrichtung</title><description>Verfahren zur Herstellung eines elektrisch leitfähigen Substrats (1, 1A, 1B), das ein Basismaterial (2) und eine elektrisch leitfähige Musterschicht (8) auf einer Hauptseite (2a) des Basismaterials (2) aufweist, wobei das Verfahren aufweist:einen Schritt des Ausbildens eines Grabens (6) mit einer Bodenfläche (6a), an der eine Grundschicht (3) freiliegt,und einer Seitenfläche (6b, 6c), welche eine Oberfläche (4a) einer Grabenbildungsschicht (4) enthält, mittels eines Prägeverfahrens, in welchem eine Matrize (7),welche ein konvexes Teil (7a) aufweist, in die Grabenbildungsschicht (4) gedrückt wird, welche auf der Grundschicht (3) angeordnet ist, welche wiederum auf dem Basismaterial (2) angeordnet ist, wobei die Grundschicht (3) einen Katalysator enthält;einen Schritt des Ausbildens der elektrisch leitfähigen Musterschicht (8), der Metallplattieren und Füllen des Grabens (6) umfasst, indem von der auf der Bodenfläche (6a) des Grabens (6) freiliegenden Grundschicht (3) aus eine Metallplattierung aufgewachsen wird; undeinen Schritt des Schwärzens der Oberfläche (8a) der elektrisch leitfähigen Musterschicht (8), wobei die Oberfläche (8a) eine Fläche beinhaltet, die der Bodenfläche (6a) des Grabens (6) gegenüberliegt.
A method of producing an electroconductive substrate including a base material, and an electroconductive pattern disposed on one main surface side of the base material includes: a step of forming a trench including a bottom surface to which a foundation layer is exposed, and a lateral surface which includes a surface of a trench formation layer, according to an imprint method; and a step of forming an electroconductive pattern layer by growing metal plating from the foundation layer which is exposed to the bottom surface of the trench.</description><subject>CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS</subject><subject>CHEMICAL SURFACE TREATMENT</subject><subject>CHEMISTRY</subject><subject>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</subject><subject>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</subject><subject>COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL</subject><subject>COATING METALLIC MATERIAL</subject><subject>DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL</subject><subject>ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</subject><subject>ELECTRICITY</subject><subject>INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL</subject><subject>MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS</subject><subject>METALLURGY</subject><subject>PRINTED CIRCUITS</subject><subject>SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2024</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZIgLSy1KS8woSs1TqCotUvBILSouSc3JKc1LV0jNzEstVkjNSc0uKcosTs5QyEnNLEk7vCQjMx2oOrg0qbikKLGkWKE0LwWstkjBMa8qFShZll9UlJmcUQI0hIeBNS0xpziVF0pzM6i6uYY4e-imFuTHpxYXJCan5qWWxLu4GhoYGRhaGIKQmZOJMbHqAAxCP90</recordid><startdate>20240418</startdate><enddate>20240418</enddate><creator>Taniguchi, Susumu</creator><creator>Horikawa, Yuhei</creator><creator>Abe, Hisayuki</creator><creator>Seki, Akiko</creator><creator>Daitoku, Takashi</creator><creator>Sato, Atsushi</creator><creator>Orikasa, Makoto</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20240418</creationdate><title>Verfahren zur Herstellung eines elektrisch leitfähigen Substrats und einer Anzeigevorrichtung</title><author>Taniguchi, Susumu ; 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A method of producing an electroconductive substrate including a base material, and an electroconductive pattern disposed on one main surface side of the base material includes: a step of forming a trench including a bottom surface to which a foundation layer is exposed, and a lateral surface which includes a surface of a trench formation layer, according to an imprint method; and a step of forming an electroconductive pattern layer by growing metal plating from the foundation layer which is exposed to the bottom surface of the trench.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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