Verdampfungsvorrichtung und Verfahren

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Verdampfungsvorrichtung (100 bis 1500) aufweisen: einen ersten Verdampfungstiegel (102a) zum Bereitstellen einer ersten Dampfquelle und einen zweiten Verdampfungstiegel (102b) zum Bereitstellen einer zweiten Dampfquelle; und eine Lageranordnung (106),...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Gottsmann, Lutz, Melcher, Jens, Naucke, Heiko, Deus, Carsten
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Verdampfungsvorrichtung (100 bis 1500) aufweisen: einen ersten Verdampfungstiegel (102a) zum Bereitstellen einer ersten Dampfquelle und einen zweiten Verdampfungstiegel (102b) zum Bereitstellen einer zweiten Dampfquelle; und eine Lageranordnung (106), mittels welcher der erste Verdampfungstiegel (102a) und der zweite Verdampfungstiegel (102b) verlagerbar gelagert sind derart, dass diese unabhängig voneinander und/oder relativ zueinander verlagert werden können.