Vorrichtung zur elektronenunterstützten Beschichtung von Substraten sowie ein entsprechendes Verfahren
Es wird eine Vorrichtung (100) zur elektronenunterstützten Beschichtung von Substraten (60) zur Verfügung gestellt, welche einen Vakuum-Rezipienten (90) umfasst, der zur Bereitstellung eines Vakuums (80) ausgebildet ist. Ferner umfasst die Vorrichtung (100) mindestens ein Trägerelement (70), welches...
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|---|---|
| Format: | Patent |
| Sprache: | ger |
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| container_end_page | |
|---|---|
| container_issue | |
| container_start_page | |
| container_title | |
| container_volume | |
| creator | Ksianzou, Viachaslau Heinrich, Friedhelm Grytsenko, Kostyantyn Schrader, Sigurd |
| description | Es wird eine Vorrichtung (100) zur elektronenunterstützten Beschichtung von Substraten (60) zur Verfügung gestellt, welche einen Vakuum-Rezipienten (90) umfasst, der zur Bereitstellung eines Vakuums (80) ausgebildet ist. Ferner umfasst die Vorrichtung (100) mindestens ein Trägerelement (70), welches zur Aufnahme des zu beschichtenden Substrates (60) ausgebildet ist sowie eine Materialquelle (50), insbesondere eine Verdampfer-Einheit zur Bereitstellung organischer Moleküle. Erfindungsgemäß umfasst die Vorrichtung (100) ferner eine Elektronenquelle (40) für die Freigabe von Elektronen (30) innerhalb des Vakuum-Rezipienten (90).Ferner wird ein entsprechendes Verfahren zur elektronenunterstützten Beschichtung eines Substrates 60 vorgeschlagen.
The invention relates to a device (100) for the electron-assisted coating of substrates (60), comprising a vacuum receptacle (90) designed for providing a vacuum (80). The device (100) also comprises at least one carrier element (70) designed for receiving the substrate (60) to be coated, and a material source (50), in particular an evaporator unit for providing organic molecules. According to the invention, the device (100) further comprises an electron source (40) for the release of electrons (30) within the vacuum receptacle (90). The invention also relates to a corresponding method for the electron-assisted coating of a substrate (60). |
| format | Patent |
| fullrecord | <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_DE102017106985A1</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>DE102017106985A1</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_DE102017106985A13</originalsourceid><addsrcrecordid>eNqNyr0KwjAUhuEuDqLeQxZHoVH8G_2puCtdS4xfm2I5KScnCr02N29MBN2d3uF9-kmVe-baOolUqS6yQoObsCdQJAEHeT2lE5DaIlj3k3dP6hQvQdh8XvCPGgo1KZCElmEd6IqgcnBpHIOGSa80TcDo20EyPmTn3XGC1hcIrbEgSLHPdDpN9VKni_VqvtGzf90bYOpEKA</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>Vorrichtung zur elektronenunterstützten Beschichtung von Substraten sowie ein entsprechendes Verfahren</title><source>esp@cenet</source><creator>Ksianzou, Viachaslau ; Heinrich, Friedhelm ; Grytsenko, Kostyantyn ; Schrader, Sigurd</creator><creatorcontrib>Ksianzou, Viachaslau ; Heinrich, Friedhelm ; Grytsenko, Kostyantyn ; Schrader, Sigurd</creatorcontrib><description>Es wird eine Vorrichtung (100) zur elektronenunterstützten Beschichtung von Substraten (60) zur Verfügung gestellt, welche einen Vakuum-Rezipienten (90) umfasst, der zur Bereitstellung eines Vakuums (80) ausgebildet ist. Ferner umfasst die Vorrichtung (100) mindestens ein Trägerelement (70), welches zur Aufnahme des zu beschichtenden Substrates (60) ausgebildet ist sowie eine Materialquelle (50), insbesondere eine Verdampfer-Einheit zur Bereitstellung organischer Moleküle. Erfindungsgemäß umfasst die Vorrichtung (100) ferner eine Elektronenquelle (40) für die Freigabe von Elektronen (30) innerhalb des Vakuum-Rezipienten (90).Ferner wird ein entsprechendes Verfahren zur elektronenunterstützten Beschichtung eines Substrates 60 vorgeschlagen.
The invention relates to a device (100) for the electron-assisted coating of substrates (60), comprising a vacuum receptacle (90) designed for providing a vacuum (80). The device (100) also comprises at least one carrier element (70) designed for receiving the substrate (60) to be coated, and a material source (50), in particular an evaporator unit for providing organic molecules. According to the invention, the device (100) further comprises an electron source (40) for the release of electrons (30) within the vacuum receptacle (90). The invention also relates to a corresponding method for the electron-assisted coating of a substrate (60).</description><language>ger</language><subject>CHEMICAL SURFACE TREATMENT ; CHEMISTRY ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL ; COATING METALLIC MATERIAL ; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL ; METALLURGY ; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</subject><creationdate>2018</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20181004&DB=EPODOC&CC=DE&NR=102017106985A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76547</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20181004&DB=EPODOC&CC=DE&NR=102017106985A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>Ksianzou, Viachaslau</creatorcontrib><creatorcontrib>Heinrich, Friedhelm</creatorcontrib><creatorcontrib>Grytsenko, Kostyantyn</creatorcontrib><creatorcontrib>Schrader, Sigurd</creatorcontrib><title>Vorrichtung zur elektronenunterstützten Beschichtung von Substraten sowie ein entsprechendes Verfahren</title><description>Es wird eine Vorrichtung (100) zur elektronenunterstützten Beschichtung von Substraten (60) zur Verfügung gestellt, welche einen Vakuum-Rezipienten (90) umfasst, der zur Bereitstellung eines Vakuums (80) ausgebildet ist. Ferner umfasst die Vorrichtung (100) mindestens ein Trägerelement (70), welches zur Aufnahme des zu beschichtenden Substrates (60) ausgebildet ist sowie eine Materialquelle (50), insbesondere eine Verdampfer-Einheit zur Bereitstellung organischer Moleküle. Erfindungsgemäß umfasst die Vorrichtung (100) ferner eine Elektronenquelle (40) für die Freigabe von Elektronen (30) innerhalb des Vakuum-Rezipienten (90).Ferner wird ein entsprechendes Verfahren zur elektronenunterstützten Beschichtung eines Substrates 60 vorgeschlagen.
The invention relates to a device (100) for the electron-assisted coating of substrates (60), comprising a vacuum receptacle (90) designed for providing a vacuum (80). The device (100) also comprises at least one carrier element (70) designed for receiving the substrate (60) to be coated, and a material source (50), in particular an evaporator unit for providing organic molecules. According to the invention, the device (100) further comprises an electron source (40) for the release of electrons (30) within the vacuum receptacle (90). The invention also relates to a corresponding method for the electron-assisted coating of a substrate (60).</description><subject>CHEMICAL SURFACE TREATMENT</subject><subject>CHEMISTRY</subject><subject>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</subject><subject>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</subject><subject>COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL</subject><subject>COATING METALLIC MATERIAL</subject><subject>DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL</subject><subject>INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL</subject><subject>METALLURGY</subject><subject>SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2018</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNqNyr0KwjAUhuEuDqLeQxZHoVH8G_2puCtdS4xfm2I5KScnCr02N29MBN2d3uF9-kmVe-baOolUqS6yQoObsCdQJAEHeT2lE5DaIlj3k3dP6hQvQdh8XvCPGgo1KZCElmEd6IqgcnBpHIOGSa80TcDo20EyPmTn3XGC1hcIrbEgSLHPdDpN9VKni_VqvtGzf90bYOpEKA</recordid><startdate>20181004</startdate><enddate>20181004</enddate><creator>Ksianzou, Viachaslau</creator><creator>Heinrich, Friedhelm</creator><creator>Grytsenko, Kostyantyn</creator><creator>Schrader, Sigurd</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20181004</creationdate><title>Vorrichtung zur elektronenunterstützten Beschichtung von Substraten sowie ein entsprechendes Verfahren</title><author>Ksianzou, Viachaslau ; Heinrich, Friedhelm ; Grytsenko, Kostyantyn ; Schrader, Sigurd</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_DE102017106985A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>ger</language><creationdate>2018</creationdate><topic>CHEMICAL SURFACE TREATMENT</topic><topic>CHEMISTRY</topic><topic>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</topic><topic>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</topic><topic>COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL</topic><topic>COATING METALLIC MATERIAL</topic><topic>DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL</topic><topic>INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL</topic><topic>METALLURGY</topic><topic>SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>Ksianzou, Viachaslau</creatorcontrib><creatorcontrib>Heinrich, Friedhelm</creatorcontrib><creatorcontrib>Grytsenko, Kostyantyn</creatorcontrib><creatorcontrib>Schrader, Sigurd</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>Ksianzou, Viachaslau</au><au>Heinrich, Friedhelm</au><au>Grytsenko, Kostyantyn</au><au>Schrader, Sigurd</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>Vorrichtung zur elektronenunterstützten Beschichtung von Substraten sowie ein entsprechendes Verfahren</title><date>2018-10-04</date><risdate>2018</risdate><abstract>Es wird eine Vorrichtung (100) zur elektronenunterstützten Beschichtung von Substraten (60) zur Verfügung gestellt, welche einen Vakuum-Rezipienten (90) umfasst, der zur Bereitstellung eines Vakuums (80) ausgebildet ist. Ferner umfasst die Vorrichtung (100) mindestens ein Trägerelement (70), welches zur Aufnahme des zu beschichtenden Substrates (60) ausgebildet ist sowie eine Materialquelle (50), insbesondere eine Verdampfer-Einheit zur Bereitstellung organischer Moleküle. Erfindungsgemäß umfasst die Vorrichtung (100) ferner eine Elektronenquelle (40) für die Freigabe von Elektronen (30) innerhalb des Vakuum-Rezipienten (90).Ferner wird ein entsprechendes Verfahren zur elektronenunterstützten Beschichtung eines Substrates 60 vorgeschlagen.
The invention relates to a device (100) for the electron-assisted coating of substrates (60), comprising a vacuum receptacle (90) designed for providing a vacuum (80). The device (100) also comprises at least one carrier element (70) designed for receiving the substrate (60) to be coated, and a material source (50), in particular an evaporator unit for providing organic molecules. According to the invention, the device (100) further comprises an electron source (40) for the release of electrons (30) within the vacuum receptacle (90). The invention also relates to a corresponding method for the electron-assisted coating of a substrate (60).</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
| fulltext | fulltext_linktorsrc |
| identifier | |
| ispartof | |
| issn | |
| language | ger |
| recordid | cdi_epo_espacenet_DE102017106985A1 |
| source | esp@cenet |
| subjects | CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION |
| title | Vorrichtung zur elektronenunterstützten Beschichtung von Substraten sowie ein entsprechendes Verfahren |
| url | https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-01-03T16%3A09%3A13IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=Ksianzou,%20Viachaslau&rft.date=2018-10-04&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EDE102017106985A1%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true |