Prozessierquelle, Prozessiervorrichtung und Verfahren zum Prozessieren eines Substrats in einem Prozessierbereich einer Prozessierkammer

Prozessierquelle (100), aufweisend:* ein Gehäuse (102);* ein Anodengehäuse (104), welches in dem Gehäuse (102) angeordnet ist zum Erzeugen einer Gasentladung;* einen Austrittsspalt (106), welcher derart eingerichtet ist, dass sich mittels der Gasentladung ionisierte Teilchen aus dem Gehäuse (102) in...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Faber, Jörg, Haasemann, Georg, Deus, Carsten
Format: Patent
Sprache:ger
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Beschreibung
Zusammenfassung:Prozessierquelle (100), aufweisend:* ein Gehäuse (102);* ein Anodengehäuse (104), welches in dem Gehäuse (102) angeordnet ist zum Erzeugen einer Gasentladung;* einen Austrittsspalt (106), welcher derart eingerichtet ist, dass sich mittels der Gasentladung ionisierte Teilchen aus dem Gehäuse (102) in Richtung eines Prozessierbereichs (120p) durch den Austrittsspalt (106) hindurch ausbreiten können zum Prozessieren eines Substrats (120) in dem Prozessierbereich (120p); und* eine Magnetanordnung (110) zum Unterstützen der Gasentladung, wobei die Magnetanordnung zwischen dem Gehäuse (102) und dem Prozessierbereich (120p) angeordnet ist und sich entlang einer Erstreckungsrichtung des Austrittsspalts (106) beidseitig des Austrittsspalts (106) erstreckt.