Prozessierquelle, Prozessiervorrichtung und Verfahren zum Prozessieren eines Substrats in einem Prozessierbereich einer Prozessierkammer
Prozessierquelle (100), aufweisend:* ein Gehäuse (102);* ein Anodengehäuse (104), welches in dem Gehäuse (102) angeordnet ist zum Erzeugen einer Gasentladung;* einen Austrittsspalt (106), welcher derart eingerichtet ist, dass sich mittels der Gasentladung ionisierte Teilchen aus dem Gehäuse (102) in...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | ger |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Zusammenfassung: | Prozessierquelle (100), aufweisend:* ein Gehäuse (102);* ein Anodengehäuse (104), welches in dem Gehäuse (102) angeordnet ist zum Erzeugen einer Gasentladung;* einen Austrittsspalt (106), welcher derart eingerichtet ist, dass sich mittels der Gasentladung ionisierte Teilchen aus dem Gehäuse (102) in Richtung eines Prozessierbereichs (120p) durch den Austrittsspalt (106) hindurch ausbreiten können zum Prozessieren eines Substrats (120) in dem Prozessierbereich (120p); und* eine Magnetanordnung (110) zum Unterstützen der Gasentladung, wobei die Magnetanordnung zwischen dem Gehäuse (102) und dem Prozessierbereich (120p) angeordnet ist und sich entlang einer Erstreckungsrichtung des Austrittsspalts (106) beidseitig des Austrittsspalts (106) erstreckt. |
---|