Verfahren zum Polieren einer Oberfläche, Verfahren zur Herstellung eines reflektierenden optischen Elements, sowie optische Anordnung
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Polieren einer Oberfläche (3) eines optischen Elements, umfassend: Polieren der Oberfläche (3) mit einem Poliermittel (6) derart, dass die Oberfläche (3) nach dem Polieren in einem vorgegebenen, für den Streulichtanteil der Oberfläche (3) des optischen Elemen...
Gespeichert in:
| Hauptverfasser: | , , , , , |
|---|---|
| Format: | Patent |
| Sprache: | ger |
| Schlagworte: | |
| Online-Zugang: | Volltext bestellen |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| container_end_page | |
|---|---|
| container_issue | |
| container_start_page | |
| container_title | |
| container_volume | |
| creator | Fichtl, Robert Stickel, Franz-Josef Saitner, Marc Weyler, Simone Hofmann, Jürgen Matena, Manfred |
| description | Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Polieren einer Oberfläche (3) eines optischen Elements, umfassend: Polieren der Oberfläche (3) mit einem Poliermittel (6) derart, dass die Oberfläche (3) nach dem Polieren in einem vorgegebenen, für den Streulichtanteil der Oberfläche (3) des optischen Elements relevanten Ortswellenlängenbereich eine vorgegebene Rauheit aufweist, die durch die Korngröße des Poliermittels gezielt eingestellt werden kann. Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zum Herstellen eines reflektierenden optischen Elements, bei dem auf die nach dem weiter oben beschriebenen Verfahren polierte Oberfläche (3) eine reflektierende Beschichtung aufgebracht wird, sowie eine optische Anordnung, insbesondere ein Projektionsobjektiv für die Lithographie, bevorzugt für die EUV-Lithographie. |
| format | Patent |
| fullrecord | <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_DE102016217640A1</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>DE102016217640A1</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_DE102016217640A13</originalsourceid><addsrcrecordid>eNqNjDEOgkAURGksjHqH39hhAmiwJoqh08LYEpRBNi5_ye4SEw_gSbyJF3MlxlhaTSbz3gy9-wG6KmoNplvX0E5JgXeBYGjaHt0qn49TDZ9-SU0ZtLGQsuNzDxvSqCQutvdLR6nWCuNMplSiAVvjk1FXge9CCStdsrsYe4OqkAaTT4686Sbdr7IZWpXDtMUJDJuv0zCIgjCOwmW8CJJw_i_3AlkBTlA</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>Verfahren zum Polieren einer Oberfläche, Verfahren zur Herstellung eines reflektierenden optischen Elements, sowie optische Anordnung</title><source>esp@cenet</source><creator>Fichtl, Robert ; Stickel, Franz-Josef ; Saitner, Marc ; Weyler, Simone ; Hofmann, Jürgen ; Matena, Manfred</creator><creatorcontrib>Fichtl, Robert ; Stickel, Franz-Josef ; Saitner, Marc ; Weyler, Simone ; Hofmann, Jürgen ; Matena, Manfred</creatorcontrib><description>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Polieren einer Oberfläche (3) eines optischen Elements, umfassend: Polieren der Oberfläche (3) mit einem Poliermittel (6) derart, dass die Oberfläche (3) nach dem Polieren in einem vorgegebenen, für den Streulichtanteil der Oberfläche (3) des optischen Elements relevanten Ortswellenlängenbereich eine vorgegebene Rauheit aufweist, die durch die Korngröße des Poliermittels gezielt eingestellt werden kann. Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zum Herstellen eines reflektierenden optischen Elements, bei dem auf die nach dem weiter oben beschriebenen Verfahren polierte Oberfläche (3) eine reflektierende Beschichtung aufgebracht wird, sowie eine optische Anordnung, insbesondere ein Projektionsobjektiv für die Lithographie, bevorzugt für die EUV-Lithographie.</description><language>ger</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CINEMATOGRAPHY ; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES ; ELECTROGRAPHY ; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS ; GRINDING ; HOLOGRAPHY ; MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING ; MATERIALS THEREFOR ; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS ; OPTICS ; ORIGINALS THEREFOR ; PERFORMING OPERATIONS ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS ; POLISHING ; TRANSPORTING</subject><creationdate>2016</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20161117&DB=EPODOC&CC=DE&NR=102016217640A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25543,76293</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20161117&DB=EPODOC&CC=DE&NR=102016217640A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>Fichtl, Robert</creatorcontrib><creatorcontrib>Stickel, Franz-Josef</creatorcontrib><creatorcontrib>Saitner, Marc</creatorcontrib><creatorcontrib>Weyler, Simone</creatorcontrib><creatorcontrib>Hofmann, Jürgen</creatorcontrib><creatorcontrib>Matena, Manfred</creatorcontrib><title>Verfahren zum Polieren einer Oberfläche, Verfahren zur Herstellung eines reflektierenden optischen Elements, sowie optische Anordnung</title><description>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Polieren einer Oberfläche (3) eines optischen Elements, umfassend: Polieren der Oberfläche (3) mit einem Poliermittel (6) derart, dass die Oberfläche (3) nach dem Polieren in einem vorgegebenen, für den Streulichtanteil der Oberfläche (3) des optischen Elements relevanten Ortswellenlängenbereich eine vorgegebene Rauheit aufweist, die durch die Korngröße des Poliermittels gezielt eingestellt werden kann. Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zum Herstellen eines reflektierenden optischen Elements, bei dem auf die nach dem weiter oben beschriebenen Verfahren polierte Oberfläche (3) eine reflektierende Beschichtung aufgebracht wird, sowie eine optische Anordnung, insbesondere ein Projektionsobjektiv für die Lithographie, bevorzugt für die EUV-Lithographie.</description><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</subject><subject>CINEMATOGRAPHY</subject><subject>DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES</subject><subject>ELECTROGRAPHY</subject><subject>FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS</subject><subject>GRINDING</subject><subject>HOLOGRAPHY</subject><subject>MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING</subject><subject>MATERIALS THEREFOR</subject><subject>OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS</subject><subject>OPTICS</subject><subject>ORIGINALS THEREFOR</subject><subject>PERFORMING OPERATIONS</subject><subject>PHOTOGRAPHY</subject><subject>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</subject><subject>PHYSICS</subject><subject>POLISHING</subject><subject>TRANSPORTING</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2016</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNqNjDEOgkAURGksjHqH39hhAmiwJoqh08LYEpRBNi5_ye4SEw_gSbyJF3MlxlhaTSbz3gy9-wG6KmoNplvX0E5JgXeBYGjaHt0qn49TDZ9-SU0ZtLGQsuNzDxvSqCQutvdLR6nWCuNMplSiAVvjk1FXge9CCStdsrsYe4OqkAaTT4686Sbdr7IZWpXDtMUJDJuv0zCIgjCOwmW8CJJw_i_3AlkBTlA</recordid><startdate>20161117</startdate><enddate>20161117</enddate><creator>Fichtl, Robert</creator><creator>Stickel, Franz-Josef</creator><creator>Saitner, Marc</creator><creator>Weyler, Simone</creator><creator>Hofmann, Jürgen</creator><creator>Matena, Manfred</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20161117</creationdate><title>Verfahren zum Polieren einer Oberfläche, Verfahren zur Herstellung eines reflektierenden optischen Elements, sowie optische Anordnung</title><author>Fichtl, Robert ; Stickel, Franz-Josef ; Saitner, Marc ; Weyler, Simone ; Hofmann, Jürgen ; Matena, Manfred</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_DE102016217640A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>ger</language><creationdate>2016</creationdate><topic>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</topic><topic>CINEMATOGRAPHY</topic><topic>DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES</topic><topic>ELECTROGRAPHY</topic><topic>FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS</topic><topic>GRINDING</topic><topic>HOLOGRAPHY</topic><topic>MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING</topic><topic>MATERIALS THEREFOR</topic><topic>OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS</topic><topic>OPTICS</topic><topic>ORIGINALS THEREFOR</topic><topic>PERFORMING OPERATIONS</topic><topic>PHOTOGRAPHY</topic><topic>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</topic><topic>PHYSICS</topic><topic>POLISHING</topic><topic>TRANSPORTING</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>Fichtl, Robert</creatorcontrib><creatorcontrib>Stickel, Franz-Josef</creatorcontrib><creatorcontrib>Saitner, Marc</creatorcontrib><creatorcontrib>Weyler, Simone</creatorcontrib><creatorcontrib>Hofmann, Jürgen</creatorcontrib><creatorcontrib>Matena, Manfred</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>Fichtl, Robert</au><au>Stickel, Franz-Josef</au><au>Saitner, Marc</au><au>Weyler, Simone</au><au>Hofmann, Jürgen</au><au>Matena, Manfred</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>Verfahren zum Polieren einer Oberfläche, Verfahren zur Herstellung eines reflektierenden optischen Elements, sowie optische Anordnung</title><date>2016-11-17</date><risdate>2016</risdate><abstract>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Polieren einer Oberfläche (3) eines optischen Elements, umfassend: Polieren der Oberfläche (3) mit einem Poliermittel (6) derart, dass die Oberfläche (3) nach dem Polieren in einem vorgegebenen, für den Streulichtanteil der Oberfläche (3) des optischen Elements relevanten Ortswellenlängenbereich eine vorgegebene Rauheit aufweist, die durch die Korngröße des Poliermittels gezielt eingestellt werden kann. Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zum Herstellen eines reflektierenden optischen Elements, bei dem auf die nach dem weiter oben beschriebenen Verfahren polierte Oberfläche (3) eine reflektierende Beschichtung aufgebracht wird, sowie eine optische Anordnung, insbesondere ein Projektionsobjektiv für die Lithographie, bevorzugt für die EUV-Lithographie.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
| fulltext | fulltext_linktorsrc |
| identifier | |
| ispartof | |
| issn | |
| language | ger |
| recordid | cdi_epo_espacenet_DE102016217640A1 |
| source | esp@cenet |
| subjects | APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES ELECTROGRAPHY FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS GRINDING HOLOGRAPHY MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PERFORMING OPERATIONS PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS POLISHING TRANSPORTING |
| title | Verfahren zum Polieren einer Oberfläche, Verfahren zur Herstellung eines reflektierenden optischen Elements, sowie optische Anordnung |
| url | https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-01-23T11%3A59%3A37IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=Fichtl,%20Robert&rft.date=2016-11-17&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EDE102016217640A1%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true |