Vorrichtung zur paarweisen Aufnahme von Substraten

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung, insbesondere Plasmaboot, zur Aufnahme von plattenförmigen Substraten, insbesondere von Solarzellen, zur Behandlung derselben in einer Behandlungseinrichtung, wobei jedes Substrat eine Vorderseite und eine der Vorderseite gegenüberliegenden Rückseite aufweist, umfassend mindestens eine Aufnahmevorrichtung zur Aufnahme und Fixierung der Substrate, wobei die Aufnahmevorrichtung mindestens zwei, insbesondere eine Vielzahl von, Aufnahmebereichen aufweist, wobei in jedem Aufnahmebereich mindestens zwei Substrate angeordnet oder anordnenbar sind, wobei eine Rückseite eines ersten Substrats direkt mit eine Rückseite eines zweiten Substrats in Anlage bringbar ist oder steht sowie eine Verwendung einer solchen Vorrichtung The present invention relates to a device for receiving plate-shaped substrates (3) for treating them in a treatment appliance in the form of a plasma CVD appliance (PECVD), wherein each substrate has a front face and a rear face opposite the front face, comprising at least one receiving device (5, 5') for receiving and fixing the substrates (3, 3'), wherein the receiving device has at least two receiving areas (7), in particular a multiplicity of receiving areas (7), wherein at least two substrates (3, 3') are or can be arranged in each receiving area, wherein a rear face of a first substrate (3) is directly in contact with or can be brought directly into contact with a rear face of a second substrate (3'), and wherein at least two receiving areas (5) are arranged parallel, in particular almost parallel, to each other and are connected to each other by means of insulating connection elements (19), and wherein the parallel receiving areas (5) are connected or connectable in alternation to the outputs of different polarity of a high-frequency generator.