Verfahren und Vorrichtung zur homogenen Beschichtung dielektrischer Substrate
Die Erfindung ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Beschichtung eines dielektrischen Substrats 20 mit zumindest einer optisch wirksamen Schicht mittels Sputtern in einer Vakuumkammer 1. Um den Picture Frame Effekt auch für komplexe optisch wirksame Schichtsysteme unterdrücken oder zumindest auf ei...
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| Format: | Patent |
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| description | Die Erfindung ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Beschichtung eines dielektrischen Substrats 20 mit zumindest einer optisch wirksamen Schicht mittels Sputtern in einer Vakuumkammer 1. Um den Picture Frame Effekt auch für komplexe optisch wirksame Schichtsysteme unterdrücken oder zumindest auf ein, für die jeweilige Anwendung, ästhetisch und wirtschaftlich vertretbares Maß reduzieren zu können wird eine lokale, elektrostatische Aufladung des Substrats 20 innerhalb der Vakuumkammer 1 vor und/oder nach der Abscheidung der Schicht neutralisiert. |
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Um den Picture Frame Effekt auch für komplexe optisch wirksame Schichtsysteme unterdrücken oder zumindest auf ein, für die jeweilige Anwendung, ästhetisch und wirtschaftlich vertretbares Maß reduzieren zu können wird eine lokale, elektrostatische Aufladung des Substrats 20 innerhalb der Vakuumkammer 1 vor und/oder nach der Abscheidung der Schicht neutralisiert.</description><language>ger</language><subject>CHEMICAL SURFACE TREATMENT ; CHEMISTRY ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL ; COATING METALLIC MATERIAL ; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL ; METALLURGY ; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</subject><creationdate>2016</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20160331&DB=EPODOC&CC=DE&NR=102014113899A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76547</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20160331&DB=EPODOC&CC=DE&NR=102014113899A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>KÖCKERT, CHRISTOPH</creatorcontrib><title>Verfahren und Vorrichtung zur homogenen Beschichtung dielektrischer Substrate</title><description>Die Erfindung ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Beschichtung eines dielektrischen Substrats 20 mit zumindest einer optisch wirksamen Schicht mittels Sputtern in einer Vakuumkammer 1. 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