Magnetron-Anordnung und Beschichtungsanordnung
Eine Magnetron-Anordnung (200) kann gemäß verschiedenen Ausführungsformen Folgendes aufweisen: ein Gehäuse (204) zum Tragen einer Magnetronkathode (202) und zum Aufnehmen einer Magnet-Anordnung (206); die Magnetronkathode (202) mit einem Zerstäubungsbereich (202z), in dem zu zerstäubendes Material e...
Gespeichert in:
| 1. Verfasser: | |
|---|---|
| Format: | Patent |
| Sprache: | ger |
| Schlagworte: | |
| Online-Zugang: | Volltext bestellen |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| container_end_page | |
|---|---|
| container_issue | |
| container_start_page | |
| container_title | |
| container_volume | |
| creator | RANK, ROLF |
| description | Eine Magnetron-Anordnung (200) kann gemäß verschiedenen Ausführungsformen Folgendes aufweisen: ein Gehäuse (204) zum Tragen einer Magnetronkathode (202) und zum Aufnehmen einer Magnet-Anordnung (206); die Magnetronkathode (202) mit einem Zerstäubungsbereich (202z), in dem zu zerstäubendes Material enthalten ist; die Magnet-Anordnung (206) zum Erzeugen eines Magnetfeldes in dem Zerstäubungsbereich (202z) der Magnetronkathode, wodurch ein magnetisches Streufeld (210) außerhalb des Zerstäubungsbereichs (202z) der Magnetronkathode (202) verursacht werden kann; eine an dem Gehäuse (204) angebrachte Schichtstruktur (212, 212a, 212b) aufweisend ferromagnetisches Material oder ferrimagnetisches Material, welches das Gehäuse (204) abschnittsweise derart bedecken kann, dass das magnetische Streufeld (210) abschnittsweise abgeschwächt wird. |
| format | Patent |
| fullrecord | <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_DE102014110412A1</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>DE102014110412A1</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_DE102014110412A13</originalsourceid><addsrcrecordid>eNrjZNDzTUzPSy0pys_TdczLL0rJK81LVyjNS1FwSi1OzshMzigBChQnwqR4GFjTEnOKU3mhNDeDqptriLOHbmpBfnxqcUFicirQtHgXV0MDIwNDE0NDAxNDI0dDY2LVAQCLGSyS</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>Magnetron-Anordnung und Beschichtungsanordnung</title><source>esp@cenet</source><creator>RANK, ROLF</creator><creatorcontrib>RANK, ROLF</creatorcontrib><description>Eine Magnetron-Anordnung (200) kann gemäß verschiedenen Ausführungsformen Folgendes aufweisen: ein Gehäuse (204) zum Tragen einer Magnetronkathode (202) und zum Aufnehmen einer Magnet-Anordnung (206); die Magnetronkathode (202) mit einem Zerstäubungsbereich (202z), in dem zu zerstäubendes Material enthalten ist; die Magnet-Anordnung (206) zum Erzeugen eines Magnetfeldes in dem Zerstäubungsbereich (202z) der Magnetronkathode, wodurch ein magnetisches Streufeld (210) außerhalb des Zerstäubungsbereichs (202z) der Magnetronkathode (202) verursacht werden kann; eine an dem Gehäuse (204) angebrachte Schichtstruktur (212, 212a, 212b) aufweisend ferromagnetisches Material oder ferrimagnetisches Material, welches das Gehäuse (204) abschnittsweise derart bedecken kann, dass das magnetische Streufeld (210) abschnittsweise abgeschwächt wird.</description><language>ger</language><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; CHEMICAL SURFACE TREATMENT ; CHEMISTRY ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL ; COATING METALLIC MATERIAL ; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ; ELECTRICITY ; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL ; METALLURGY ; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</subject><creationdate>2016</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20160128&DB=EPODOC&CC=DE&NR=102014110412A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76547</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20160128&DB=EPODOC&CC=DE&NR=102014110412A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>RANK, ROLF</creatorcontrib><title>Magnetron-Anordnung und Beschichtungsanordnung</title><description>Eine Magnetron-Anordnung (200) kann gemäß verschiedenen Ausführungsformen Folgendes aufweisen: ein Gehäuse (204) zum Tragen einer Magnetronkathode (202) und zum Aufnehmen einer Magnet-Anordnung (206); die Magnetronkathode (202) mit einem Zerstäubungsbereich (202z), in dem zu zerstäubendes Material enthalten ist; die Magnet-Anordnung (206) zum Erzeugen eines Magnetfeldes in dem Zerstäubungsbereich (202z) der Magnetronkathode, wodurch ein magnetisches Streufeld (210) außerhalb des Zerstäubungsbereichs (202z) der Magnetronkathode (202) verursacht werden kann; eine an dem Gehäuse (204) angebrachte Schichtstruktur (212, 212a, 212b) aufweisend ferromagnetisches Material oder ferrimagnetisches Material, welches das Gehäuse (204) abschnittsweise derart bedecken kann, dass das magnetische Streufeld (210) abschnittsweise abgeschwächt wird.</description><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</subject><subject>CHEMICAL SURFACE TREATMENT</subject><subject>CHEMISTRY</subject><subject>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</subject><subject>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</subject><subject>COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL</subject><subject>COATING METALLIC MATERIAL</subject><subject>DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL</subject><subject>ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS</subject><subject>ELECTRICITY</subject><subject>INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL</subject><subject>METALLURGY</subject><subject>SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2016</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZNDzTUzPSy0pys_TdczLL0rJK81LVyjNS1FwSi1OzshMzigBChQnwqR4GFjTEnOKU3mhNDeDqptriLOHbmpBfnxqcUFicirQtHgXV0MDIwNDE0NDAxNDI0dDY2LVAQCLGSyS</recordid><startdate>20160128</startdate><enddate>20160128</enddate><creator>RANK, ROLF</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20160128</creationdate><title>Magnetron-Anordnung und Beschichtungsanordnung</title><author>RANK, ROLF</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_DE102014110412A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>ger</language><creationdate>2016</creationdate><topic>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</topic><topic>CHEMICAL SURFACE TREATMENT</topic><topic>CHEMISTRY</topic><topic>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</topic><topic>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</topic><topic>COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL</topic><topic>COATING METALLIC MATERIAL</topic><topic>DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL</topic><topic>ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS</topic><topic>ELECTRICITY</topic><topic>INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL</topic><topic>METALLURGY</topic><topic>SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>RANK, ROLF</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>RANK, ROLF</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>Magnetron-Anordnung und Beschichtungsanordnung</title><date>2016-01-28</date><risdate>2016</risdate><abstract>Eine Magnetron-Anordnung (200) kann gemäß verschiedenen Ausführungsformen Folgendes aufweisen: ein Gehäuse (204) zum Tragen einer Magnetronkathode (202) und zum Aufnehmen einer Magnet-Anordnung (206); die Magnetronkathode (202) mit einem Zerstäubungsbereich (202z), in dem zu zerstäubendes Material enthalten ist; die Magnet-Anordnung (206) zum Erzeugen eines Magnetfeldes in dem Zerstäubungsbereich (202z) der Magnetronkathode, wodurch ein magnetisches Streufeld (210) außerhalb des Zerstäubungsbereichs (202z) der Magnetronkathode (202) verursacht werden kann; eine an dem Gehäuse (204) angebrachte Schichtstruktur (212, 212a, 212b) aufweisend ferromagnetisches Material oder ferrimagnetisches Material, welches das Gehäuse (204) abschnittsweise derart bedecken kann, dass das magnetische Streufeld (210) abschnittsweise abgeschwächt wird.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
| fulltext | fulltext_linktorsrc |
| identifier | |
| ispartof | |
| issn | |
| language | ger |
| recordid | cdi_epo_espacenet_DE102014110412A1 |
| source | esp@cenet |
| subjects | BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION |
| title | Magnetron-Anordnung und Beschichtungsanordnung |
| url | https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-01-02T22%3A20%3A52IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=RANK,%20ROLF&rft.date=2016-01-28&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EDE102014110412A1%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true |