Vakuumkammeranordnung und Verfahren
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Vakuumkammeranordnung (100) Folgendes aufweisen: mehrere derart miteinander verbundene Vakuumkammern (102), dass diese ein gemeinsames Vakuumsystem bilden, wobei eine erste Vakuumkammer der mehreren Vakuumkammern (102) einen Zugangsbereich (102z) aufwe...
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Format: | Patent |
Sprache: | ger |
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creator | BOTZLER, PETER PRÖHL, HOLGER |
description | Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Vakuumkammeranordnung (100) Folgendes aufweisen: mehrere derart miteinander verbundene Vakuumkammern (102), dass diese ein gemeinsames Vakuumsystem bilden, wobei eine erste Vakuumkammer der mehreren Vakuumkammern (102) einen Zugangsbereich (102z) aufweist, zum Transportieren eines Substrats in die mehreren miteinander verbundenen Vakuumkammern (102) hinein, und wobei eine zweite Vakuumkammer der mehreren Vakuumkammern (102) einen Ausgangsbereich (102a) zum Transportieren des Substrats aus den mehreren miteinander verbundenen Vakuumkammern (102) heraus; eine mit den mehreren miteinander verbundenen Vakuumkammern (102) gekoppelte Vakuumpumpenanordnung zum Erzeugen eines Unterdrucks (102v) innerhalb der mehreren miteinander verbundenen Vakuumkammern (102), wobei der Unterdruck (102v) geringer ist als ein außerhalb der mehreren miteinander verbundenen Vakuumkammern (102) herrschender Atmosphärendruck (108p); eine außerhalb der mehreren miteinander verbundenen Vakuumkammern (102) angeordnete Gas-Spülanordnung (104) derart eingerichtet, dass der Zugangsbereich (102z) und/oder der Ausgangsbereich (102a) mit einem Spülgas bespült (104f) werden kann. |
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eine mit den mehreren miteinander verbundenen Vakuumkammern (102) gekoppelte Vakuumpumpenanordnung zum Erzeugen eines Unterdrucks (102v) innerhalb der mehreren miteinander verbundenen Vakuumkammern (102), wobei der Unterdruck (102v) geringer ist als ein außerhalb der mehreren miteinander verbundenen Vakuumkammern (102) herrschender Atmosphärendruck (108p); eine außerhalb der mehreren miteinander verbundenen Vakuumkammern (102) angeordnete Gas-Spülanordnung (104) derart eingerichtet, dass der Zugangsbereich (102z) und/oder der Ausgangsbereich (102a) mit einem Spülgas bespült (104f) werden kann.</description><language>ger</language><subject>CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOIDCHEMISTRY ; CHEMICAL SURFACE TREATMENT ; CHEMISTRY ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL ; COATING METALLIC MATERIAL ; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL ; METALLURGY ; PERFORMING OPERATIONS ; PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL ; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION ; THEIR RELEVANT APPARATUS ; TRANSPORTING</subject><creationdate>2015</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20150820&DB=EPODOC&CC=DE&NR=102014101956A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25542,76290</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20150820&DB=EPODOC&CC=DE&NR=102014101956A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>BOTZLER, PETER</creatorcontrib><creatorcontrib>PRÖHL, HOLGER</creatorcontrib><title>Vakuumkammeranordnung und Verfahren</title><description>Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Vakuumkammeranordnung (100) Folgendes aufweisen: mehrere derart miteinander verbundene Vakuumkammern (102), dass diese ein gemeinsames Vakuumsystem bilden, wobei eine erste Vakuumkammer der mehreren Vakuumkammern (102) einen Zugangsbereich (102z) aufweist, zum Transportieren eines Substrats in die mehreren miteinander verbundenen Vakuumkammern (102) hinein, und wobei eine zweite Vakuumkammer der mehreren Vakuumkammern (102) einen Ausgangsbereich (102a) zum Transportieren des Substrats aus den mehreren miteinander verbundenen Vakuumkammern (102) heraus; eine mit den mehreren miteinander verbundenen Vakuumkammern (102) gekoppelte Vakuumpumpenanordnung zum Erzeugen eines Unterdrucks (102v) innerhalb der mehreren miteinander verbundenen Vakuumkammern (102), wobei der Unterdruck (102v) geringer ist als ein außerhalb der mehreren miteinander verbundenen Vakuumkammern (102) herrschender Atmosphärendruck (108p); eine außerhalb der mehreren miteinander verbundenen Vakuumkammern (102) angeordnete Gas-Spülanordnung (104) derart eingerichtet, dass der Zugangsbereich (102z) und/oder der Ausgangsbereich (102a) mit einem Spülgas bespült (104f) werden kann.</description><subject>CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOIDCHEMISTRY</subject><subject>CHEMICAL SURFACE TREATMENT</subject><subject>CHEMISTRY</subject><subject>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</subject><subject>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</subject><subject>COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL</subject><subject>COATING METALLIC MATERIAL</subject><subject>DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL</subject><subject>INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL</subject><subject>METALLURGY</subject><subject>PERFORMING OPERATIONS</subject><subject>PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL</subject><subject>SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</subject><subject>THEIR RELEVANT APPARATUS</subject><subject>TRANSPORTING</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2015</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZFAOS8wuLc3NTszNTS1KzMsvSskrzUtXKM1LUQhLLUpLzChKzeNhYE1LzClO5YXS3Ayqbq4hzh66qQX58anFBYnJqXmpJfEuroYGRgaGJoYGhpamZo6GxsSqAwBN3ihq</recordid><startdate>20150820</startdate><enddate>20150820</enddate><creator>BOTZLER, PETER</creator><creator>PRÖHL, HOLGER</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20150820</creationdate><title>Vakuumkammeranordnung und Verfahren</title><author>BOTZLER, PETER ; 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